江蘇鋼板腐蝕機(jī)深腐刻圖文字貨真價(jià)實(shí)「多圖」

 許多人雖然聽(tīng)說(shuō)過(guò)蝕刻機(jī)，卻不知道它屬于什么樣的設(shè)備，又有著哪一些用途，因此需要購(gòu)買(mǎi)的時(shí)候，通常會(huì)感到非常茫然，就算將設(shè)備成功買(mǎi)回來(lái)了，也不知道正確的操作方法是什么，更別說(shuō)其他的細(xì)節(jié)問(wèn)題了，由于很多朋友不知道合適的工作溫度是什么樣的，所以接下來(lái)就會(huì)進(jìn)行介紹。    1、溫度不宜過(guò)高    有的朋友不夠了解，因此施工時(shí)會(huì)刻意調(diào)高溫度，以為這樣可以讓蝕刻機(jī)的工作效率變得更高，達(dá)到更理想的蝕刻效果，實(shí)際上卻不是這樣，過(guò)高的溫度只會(huì)帶來(lái)?yè)p壞或是腐蝕問(wèn)題，甚至?xí)?dǎo)致無(wú)法蝕刻成功的情況出現(xiàn)，應(yīng)該要避免這么做。    2、這樣的溫度zui合適    既然工作溫度不能過(guò)高，那么什么樣的溫度才是zui合適的呢？不論是什么型號(hào)的蝕刻機(jī)，都要確保溫度保持在三十八度到五十度之間，如果是非自動(dòng)的型號(hào)，需要人工進(jìn)行調(diào)節(jié)，而能夠自動(dòng)加熱的型號(hào)就可以省去這個(gè)麻煩了。




腐蝕機(jī)為人工氣候環(huán)境“三防”（濕熱、鹽霧、霉菌）試驗(yàn)設(shè)備之一，是研究機(jī)械、工業(yè)、輕工電子、儀表等行業(yè)各種環(huán)境適應(yīng)性和可靠性的一種重要試驗(yàn)設(shè)備。    傳統(tǒng)的化學(xué)蝕刻機(jī)分為潑濺式腐蝕機(jī)、水平蝕刻機(jī)，然而在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，由于各種原因，蝕刻精度往往很難控制，容易產(chǎn)生測(cè)腐蝕現(xiàn)象；華誼智能科技通過(guò)市場(chǎng)的反饋和多年的蝕刻設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn)，研發(fā)出一款反噴淋式轉(zhuǎn)盤(pán)蝕刻機(jī)（轉(zhuǎn)盤(pán)大小可定做），將工件夾在轉(zhuǎn)盤(pán)上，獨(dú)立搖擺噴架由下往上高壓噴淋，同時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)也自轉(zhuǎn)，這樣就避免了蝕刻液在工件表面的殘留，提高了蝕刻精度。    同時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)蝕刻機(jī)標(biāo)配：4KW立式耐酸泵、全壓過(guò)濾器、鈦合金加熱管、鈦合金水冷管、溫度顯示自動(dòng)加熱系統(tǒng)等等。

蝕刻注意的問(wèn)題

提高整個(gè)板子表面蝕刻速率的均勻性    板子上下兩面以及板面上各個(gè)部位的蝕刻均勻性是由板子表面受到蝕刻劑流量的均勻性決定的。    蝕刻過(guò)程中，上下板面的蝕刻速率往往不一致。一般來(lái)說(shuō)，下板面的蝕刻速率高于上板面。因?yàn)樯习迕嬗腥芤旱亩逊e，減弱了蝕刻反應(yīng)的進(jìn)行。可以通過(guò)調(diào)整上下噴嘴的噴啉壓力來(lái)解決上下板面蝕刻不均的現(xiàn)象。蝕刻印制板的一個(gè)普遍問(wèn)題是在相同時(shí)間里使全部板面都蝕刻干凈是很難做到的，板子邊緣比板子中心部位蝕刻的快。采用噴淋系統(tǒng)并使噴嘴擺動(dòng)是一個(gè)有效的措施。更進(jìn)一步的改善可以通過(guò)使板中心和板邊緣處的噴淋壓力不同，板前沿和板后端間歇蝕刻的辦法，達(dá)到整個(gè)板面的蝕刻均勻性。    提高安全處理和蝕刻薄銅箔及薄層壓板的能力    在蝕刻多層板內(nèi)層這樣的薄層壓板時(shí)，板子容易卷繞在滾輪和傳送輪上而造成廢品。所以，蝕刻內(nèi)層板的設(shè)備必須保證能平穩(wěn)的，可靠地處理薄的層壓板。許多設(shè)備制造商在蝕刻機(jī)上附加齒輪或滾輪來(lái)防止這類(lèi)現(xiàn)象的發(fā)生。更好的方法是采用附加的左右搖擺的聚四氟乙烯涂包線作為薄層壓板傳送的支撐物。對(duì)于薄銅箔(例如1/2或1/4盎司)的蝕刻，必須保證不被擦傷或劃傷。薄銅箔經(jīng)不住像蝕刻1盎司銅箔時(shí)的機(jī)械上的弊端，有時(shí)較劇烈的振顫都有可能劃傷銅箔。

蝕刻機(jī)和光刻機(jī)的區(qū)別

這倆設(shè)備非常簡(jiǎn)單的表述便是光刻機(jī)把原理圖投射到遮蓋有光刻膠的硅片上邊，刻蝕機(jī)再把剛剛畫(huà)了原理圖的硅片上的不必要原理圖浸蝕掉，那樣看上去好像沒(méi)有什么難的，可是有一個(gè)品牌形象的形容，每一塊集成ic上邊的電源電路構(gòu)造變大成千上萬(wàn)倍看來(lái)比全部北京市都繁雜，這就是這光刻和蝕刻加工的難度系數(shù)。 光刻的全過(guò)程就是目前制做好的硅圓表面涂上一層光刻膠(一種能夠被光浸蝕的膠狀物化學(xué)物質(zhì))，下面根據(jù)光源(加工工藝難度系數(shù)紫外線＜深紫外線＜極紫外線)通過(guò)掩膜照射硅圓表面(相近投射)，由于光刻膠的遮蓋，照射的一部分被浸蝕掉，沒(méi)有陽(yáng)光照射的一部分被留下，這一部分就是必須 的電源電路構(gòu)造。 蝕刻加工分成二種，一種是干刻，一種是濕刻(現(xiàn)階段流行)，說(shuō)白了，濕刻便是全過(guò)程中存水添加，將上邊歷經(jīng)光刻的圓晶與特殊的化學(xué)溶液反映，除掉不用的一部分，剩余的就是電源電路構(gòu)造了，干刻現(xiàn)階段都還沒(méi)完成商業(yè)服務(wù)批量生產(chǎn)，其基本原理是根據(jù)等離子技術(shù)替代化學(xué)溶液，除去不用的硅圓一部分。