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真空鍍膜設備我們可能見到的有很多，如真空鍍膜機等等，這里為大家介紹一種概述電磁屏蔽膜真空鍍膜設備，具體如下：

電磁屏蔽膜真空鍍膜設備是在手機、筆記本電腦、電話機、DVD等電子產品塑膠外殼表面上鍍制電磁屏蔽（EMI）薄膜的設備。該設備利用等離子體表面處理技術，并采用真空蒸發和磁控濺射鍍膜工藝相結合，以真空蒸發鍍Ag、Cu，以磁控濺射鍍Ni/Cr不銹鋼，可實現不同電阻要求的EMI鍍膜。

電磁屏蔽（EMI）膜真空鍍膜設備特點及基本參數：

1.有臥式、立式結構，可實現單面同時鍍膜；

2.生產效率,快速度達1分鐘/節拍；

3.模組化設，維護方便；

4.鍍膜工藝成熟，成品率高；

5.直流磁控濺射陰極可隨客戶要求選擇；

6.真空系統由機械泵、羅茨泵、擴散泵組成；

7.大尺寸；2200mm*1200mm(長*寬)；

8.小尺寸；500mm*400mm(長*寬)。

真空鍍膜設備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設備鍍膜過程的均勻性到底多重要？ 厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發速率. 對于不同的濺射材料和基片，參數需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術，已經比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實驗研究，工業生產上比較常用的一體式鍍膜機主要以離子蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

為什么真空鍍膜設備鍍玻璃會掉膜?

為什么真空鍍膜設備鍍玻璃會掉膜？ 真空蒸發鍍膜設備的零部件的表面清洗處理是很有必要的，因為要是受到外界環境的影響會使真空系統無法正常使用達不到高真空度。而且存在雜質的情況下，真空部件的鏈接和密閉性都有受到影響。 污染物雜質對真空完全是一種無用的物質，多弧離子鍍膜機會根據雜質的狀態將其分為固態雜質、氣態雜質以及液體雜質，它們微粒的形式存在。從化學的角度看，既可以是離子的也可以是共價的，既是有機的也可以是無機的。顯露的外面的表層容易被污染到，被污染的情況有很多種，一開始一般是由本身運轉形成的。要注意表層吸附、化學作用、清潔和晾干等過程、機械在各種運作過程中都有可能產生污漬使表面污染物增加。