廣西氧化鎂晶體單晶襯底基片-價格優惠 合肥合瑞達材料齊全

氧化鎂(MgO)單晶基片是高頻微波器件高溫超導薄膜zui常選用的主要襯底材料之一， 也是當前可實現產業化的重要的高溫超導薄膜基片。單晶氧化鎂是指MgO含量在99.95%以上，具有極強的耐高低溫（高溫2500℃，低溫-270℃）抗腐蝕性、絕緣性和良好的導熱性和光學性能、無色透明的晶體。具有巖鹽晶體結構的MgO是一種寬禁帶氧化物絕緣體，帶隙Eg為7.8 eV。優良的絕緣性、熱傳導性、熱穩定性等特點使得MgO具有十分廣泛的應用。

氧化鎂單晶是以高純氧化鎂為原料，在生產高純電熔鎂砂過程產出的高純氧化鎂單晶體，MgO含量在99.90%以上，體積密度大于3.5g/cm3，其應用領域包括：①高溫超導器件生長基片（超導器件、CT、通訊）；②高溫高的精度光學材料（航空、航天、激光制導）；③等離子顯示器薄膜（平板顯示器PDP、手機和電視機屏）；④高溫坩堝材料（中子檢測、冶金行業）；⑤高溫絕緣材料、光學陶瓷；⑥半導體材料（底襯、傳感器）等。

氧化鎂濕法脫硫工藝（簡稱：鎂法脫硫）與石灰-石膏法脫硫工藝類似，它是以氧化鎂（MgO）為原料，經熟化生成氫氧化鎂（Mg(OH)2）作為脫硫劑的一種先進、有效、經濟的脫硫系統。在吸收塔內，吸收漿液與煙氣接觸混合，煙氣中的SO2與漿液中的氫氧化鎂進行化學反應從而被脫除，反應產物為亞硫酸鎂和硫酸鎂混合物。