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發布時間:2021-08-14 20:57  
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以稀土拋光粉中CeO2量來劃分:
稀土拋光粉的主要成分是CeO2,據其CeO2量的高低可將拋光粉分為兩大類:一類是CeO2含量高的價高質優的高拋光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一類是CeO2含量低的廉價的低拋光粉,其含量在50%左右,或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

稀土拋光粉的粒度及粒度分布對拋光粉性能有重要影響。
對于一定組分和加工工藝的拋光粉,平均顆粒尺寸越大,則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多數情況下,顆粒尺寸約為4μm的拋光粉磨削速度。相反地,如果拋光粉顆粒平均粒度較小,則磨削量減少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,標準拋光粉一般有較窄的粒度分布,太細和太粗的顆粒很少,無大顆粒的拋光粉能拋光出高質量的表面,而細顆粒少的拋光粉能提高磨削速度。



主要指標:產品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率約95%;平均粒經1μm~6μm(或粒度為200目~300目),晶形完好。該產品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉()。
1.4.2中系稀土拋光粉的制備
用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)為原料,以化學方法預處理得稀土鹽溶液,加入中間體(沉淀劑)使轉化成w(CeO2)=80%~85%的中級系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為:
原料→氧化→優溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產品。主要設備:氧化槽,優溶槽,酸溶槽,沉淀槽,過濾機,煅燒爐,細磨篩分機及包裝機。
在稀土拋光粉的消費中,日本是消費者,每年約生產3550噸~4000噸拋光粉,產值35億~40億日元,還從法國、美國和中國進口部分拋光粉。其中拋光粉消費市場是彩電陰極射線管。二十世紀90年代中期,日本陰極射線管的生產轉向海外,而平面顯示產品產量迅速增加,對基拋光粉的需求量也迅速增加。估計日本在液晶顯示用平面顯示器生產上消費的拋光粉約占其市場的50%.90年代以來,日本將其陰極射線管用拋光粉的生產技術和設備向海外轉移,如:日本清美化學從1989年開始在海外生產陰極射線管用基拋光粉。