您好,歡迎來到易龍商務網!
發布時間:2021-07-01 07:11  
【廣告】





退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝,其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以摻雜劑,將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面,使致密沉積的薄膜,改變生長的薄膜的狀態,修復注入的損傷,移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中,例如氧化,或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導體晶片而設計的設備完成的。退火爐是節能型周期式作業爐,超節能結構,采用纖維結構,節電60%。
物料的干燥速率取決于表面汽化速率和內部濕分的擴散速率。通常干燥前期的干燥速率受表面汽化速率控制;而后,只要干燥的外部條件不變,物料的干燥速率和表面溫度即保持穩定,這個階段稱為恒速干燥階段;當物料濕含量降低到某一程度,內部濕分向表面的擴散速率降低,并小于表面汽化速率時,干燥速率即主要由內部擴散速率決定,并隨濕含量的降低而不斷降低,這個階段稱為降速干燥階段。
熱風隧道烘箱的結構:
熱風隧道烘箱是一種連續干燥設備,可以連續烘烤,提高產品的生產效率。兩側均配有鏈傳動,解決運輸過程中的跑偏現象。烤箱是分段加熱的,由獨立的電箱控制,操作簡單。結構主要由輸送系統和干燥爐組成。多級獨立PID溫度控制,爐內溫度均勻。輸送速度采用變頻調速,可自由調節,運行平穩,生產。