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發布時間:2021-09-13 10:22  
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為了進行化學拋光,必須使零件表面的凸部比凹部優先溶解,因此應將化學拋光的作用分為兩個階段來認識。一階段是化學拋光時金屬表面現象的幾何凸凹的整平,去除較粗糙的表面不平度,獲得平均為數微米到數十微米的光潔度;第二階段是晶界附近的結晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相當于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化,把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。
為什么要選擇化學拋光,而不是機械拋光或電拋光?
答:(1)可用于機械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結構比較復雜,具有不規則凹、凸結構的制件,狹小縫隙或孔洞的內表面,精細薄小的制件等。
(2)一般為簡單的手工操作,操作方法簡單,容易掌握。
(3)拋光后的制件,表面粗糙度非常均勻一致,其均勻性超過機械拋光和電拋光。
(4)作業時勞動強度小,無噪聲和粉塵污染。
化學拋光的應用已有較長的歷史,特別是對不銹鋼,鎢及鋁合金等應用廣泛,工藝技術也較為成熟.化學拋光對鋼鐵零件特別是對低碳鋼有較好的拋光效果,對于一些機械拋光實施較.
電化學拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極,不溶性金屬為陰極,兩極同時浸入到電解槽中,通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解,從而達到工件表面光亮度增大的效果。