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              鎂微弧氧化技術行業專家在線為您服務 日照微弧

              發布時間:2020-08-08 08:10  

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              微弧氧化技術

                     為提高鋁材料的表面性能,常用的方法有電鍍,激光,陽極氧化等,其中微弧氧化技術是基于陽極氧化發展起來的一種先進的表面強化處理技術。微弧氧化技術、微弧氧化生產線2、微弧氧化技術絕緣性好耐熱性高,可承受高溫使用,范圍根據基材熔點溫度有良好的絕緣性能,絕緣電阻膜阻>。微弧氧化是把工件放入溶液中施加高電壓進行氧化。隨著電壓的遞增,逐步進入火花放電階段,并通過瞬時高溫燒結作用使氧化膜結構發生變化,生成陶瓷膜層。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化工藝


              微弧氧化

                     微弧氧化,是在電解質溶液中(一般是弱堿性溶液)施加高電壓(直流、交流或脈沖)在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程,該過程是物理放電與電化學氧化、等離子體氧化協同作用的結果。微弧氧化的合適放電區間較窄,要求對放電后的電參數控制比較好,大電流、高電壓對供電電源提出了高要求,由于對微弧氧化本質認識限制,使得電源的設計及制造仍停留在經驗摸索層面上,帶有很大的盲目性。微弧氧化技術是在普通陽極氧化技術的基礎上發展起來的,進一步提高電壓,使電壓超出法拉第區,達到氧化膜的擊穿電壓,就會在陽極出現火花放電現象,在材料表面形成陶瓷氧化膜,使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的,又保持了陽極氧化膜與基體的結合力。


                      微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,與基體呈冶金結合,膜層致密,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。微弧氧化通過電源參數的靈活運用,微弧氧化電解液的特殊匹配,在鈦合金零件表面原位制備微弧氧化陶瓷膜的強化處理,達到防腐、提高發射率、耐磨、高絕緣等性能要求。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首要選擇。


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