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發布時間:2021-10-19 09:30  
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真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電子交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊亞氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。
不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉磁場。但旋轉磁場需要旋轉機構,同時濺射速率要減小。旋轉磁場多用于大型或貴重靶。如半導體膜濺射。對于小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源。

一般要求耐高溫的部件,做真空電鍍都要在噴一層UV油,這樣使得產品表面即有光澤、有耐高溫、同時又保證附著力。
因此,為保證真空電鍍的附著力,均需后續進行特殊的噴涂處理,成本當然高些。C、水電鍍顏色較單調,一般只有亮銀和亞銀等少數幾種,對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。