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PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發鍍膜。PVD真空鍍膜機鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進行輝光放電，這時Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

多弧離子真空鍍膜機鍍膜技術

很多朋友問我關于多弧離子真空鍍膜機真空技術方面的問題，當時給朋友解釋了很多，今天至成小編為大家詳細介紹一下：

多弧離子鍍是采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發金屬，蒸發物是從陰極弧光放電放出的陰極物質的離子，這種裝置不需要熔池，被蒸發的靶材接陰極，真空室為陽極，當觸發電極與陰極靶突然瞬間接觸時，就會引起電弧，在陰極表面產生強烈發光的陰極弧光斑點，斑點直徑在100?m以下，斑點內的電流密度可達103~107A/cm2于是在這一區域內的材料就瞬時蒸發并電離。陰極弧光斑點在陰極表面上，以每秒幾十米的速度做無規則運動，外加磁場用來控制輝點的運動軌跡和速度，為了維持真空電弧，一般要求電壓為–20到–40V。多弧離子鍍的原理是基于冷陰極真空弧光放電理論，該理論認為，放電過程的電量遷移是借助于場電子發射和正離子電流這兩種機制同時存在且相互制約而實現的。

在放電過程中，陰極材料大量蒸發，這些蒸汽分子產生的正離子，在陰極表面附近很短的距離內產生極強的電場，在這樣強的電場作用下，電子以產生以場電子發射而溢出到真空中，而正離子可占總的電弧電流的10%左右，被吸到陰極表面的金屬離子形成空間電荷層，由此產生強電場，使陰極表面上功函數小的點(晶界或裂痕)開始發射電子。個別發射電子密度高的點，電流密度高。焦耳熱使溫度上升又產生熱電子，進一步增加發射電子。這個正反饋作用使電流局部集中。由于電流局部集中產生的焦耳熱使陰極材料表面局部爆發性地等離子化，發射電子和離子，并留下放電痕。同時也放出熔融的陰極材料粒子。發射的離子中的一部分被吸回陰極表面，形成空間電荷層，產生強電場，又使新的功函數小的點開始發射電子。

磁控真空鍍膜機做漸變色原理

現在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現在很多牌子手機殼也應用了這種漸變色，因此，漸變色也越來越受人們關注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細介紹一下真開工鍍膜機做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設備，目前華為、聯想等多款手機漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設備是現有產品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設備，一臺完整的磁控濺射真空鍍膜機是由多部分系統組成的，每個系統可以完成不同的功能，從而實現終的鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機械泵、真空測試系統、油擴散泵、抽真空系統、冷凝泵以及成膜控制系統等等。

磁控濺射真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結實耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監控以及水晶震蕩監控等。真空鍍膜機、真空鍍膜設備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料。