石碣標牌曝光顯影工藝給您好的建議

因外層一般需二次鍍銅，外層所用底片剛好與內層相反,底片為正片。顯影后，把尚未發生聚合反應的區域用顯像液將之沖洗掉,已感光部分則因已發生聚合反應而洗不掉而留在銅面上成為蝕刻或電鍍之阻劑膜，將顯影后的露銅面的厚度加后,以達到客戶所要求的銅厚，在鍍完二次銅的表面鍍上一層錫保護，做為蝕刻時的保護劑。將抗電鍍用途之干膜以藥剝除，將非導體部分的銅蝕掉。將導體部分的起保護作用之錫剝除，留下的就是線路圖形。

自然干燥時間過長造成暗感光。

一般絲網印刷在上膠后用 38-40攝氏度烘干，完成zhi烘干后的網版必須盡快曝光/顯影。

如果制版數量很大，不需要使用烘干設備，可以考慮存放于空調房間（25攝氏度），這樣可以延長未曝光前的保存時間。但是上膠后的網版，一般不允許存放超過4-6小時。1，可能是感光膠與重氮感光劑配比不正確。

2，可能是配置好的zhi感光膠存放于光亮處或溫度較高的地方，或存放時間過長，放置超過72小時。

3，可能是上膠后的絲網烘干溫度過高或時間過長。

負性膠與正性膠性能特征進行了比較，結論概括如下：

1、曝光顯影過程不同

正性膠在曝光區間顯影，負性膠則相反。

2、形成的輪廓不同

負性膠和正性膠邊界漫射光形成的輪廓不同，負性膠由于曝光區間得到保留，漫射形成的輪廓使顯影后的圖象為上寬下窄的圖像；而正性膠相反，為下寬上窄的圖像。

3、顯影劑的溶液不同

正膠溶于強堿，顯影劑采用中型堿溶液，而是負性膠多采用有機溶液，如二甲本溶液。