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              磁控多弧復(fù)合鍍膜機(jī)免費(fèi)咨詢

              發(fā)布時(shí)間:2020-07-19 19:48  

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              連續(xù)式磁控濺射鍍膜設(shè)備


              該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET、PC等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì),提供全套設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。

              該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PET等表面鍍制高質(zhì)量、金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜層。至成鍍膜機(jī)廠家可按用戶要求提供設(shè)計(jì),提供全套鍍膜設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝,按交“鑰匙”工程服務(wù)。

              優(yōu)勢(shì):設(shè)備模組化設(shè)計(jì),易拆卸,維修,保養(yǎng);高靶材利用率;高生產(chǎn)力及產(chǎn)品良率;環(huán)保制程無(wú)污染及環(huán)保問(wèn)題;高客制化兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求;整廠輸出:?jiǎn)纹讲Aв|控面板整廠輸出;CIGS整廠輸出;整廠輸出;卷對(duì)卷ITO膜整廠輸出;太陽(yáng)能整廠輸出;電致變色整廠輸出;


              多弧離子真空磁控濺射鍍膜機(jī)工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)與工作原理介紹

              多弧離子鍍膜機(jī)是一種、無(wú)害、無(wú)污染的離子鍍膜設(shè)備,具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡(jiǎn)略、本錢低、出產(chǎn)量大的長(zhǎng)處。

              真空多弧離子鍍膜機(jī)偏壓電源的作業(yè)原理

              離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜,關(guān)于導(dǎo)電靶材,運(yùn)用直流偏壓電源;非導(dǎo)電靶材,運(yùn)用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機(jī),可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

              偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽(yáng)極之間構(gòu)成偏壓電場(chǎng),通常是陰極加負(fù)高壓。陰極外表的自由電子在電場(chǎng)效果下定向加快發(fā)射,發(fā)射電子炮擊氣體分子,使之電離,并且氣體被驅(qū)出的電子被電場(chǎng)加快,持續(xù)電離別的氣體分子,接二連三,構(gòu)成雪崩效應(yīng),氣體被擊穿,構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快,炮擊靶材,將靶材中的原子驅(qū)除出外表,并堆積在樣品外表。


              鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢(shì)



              當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種,一種是化學(xué)氣象沉積,一種是化學(xué)鍍膜(CVD),一種是物理氣象沉積,也就是真空鍍膜(PVD)。

              化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室,在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過(guò)程。在化學(xué)薄膜的過(guò)程中,容易產(chǎn)生溶液污染,如果鍍層表面雜質(zhì)多,鍍出來(lái)的效果不好。

              化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高,一般要控制在1000℃左右,但很多基體材料是無(wú)法受此高溫,及時(shí)硬質(zhì)合金,雖然能經(jīng)受高溫,但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會(huì)造成晶粒粗大,引起脆性相,性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN,晶體擴(kuò)散出來(lái)的碳會(huì)與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層,該層韌性差,抗彎強(qiáng)度低,造成刀具使用壽命縮短。

              真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問(wèn)題。真空鍍膜是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電技術(shù),利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

              所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過(guò)等離子體沉積在工件表面,解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問(wèn)題,不會(huì)產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì),鍍出來(lái)的膜層硬度更高,耐磨性和腐蝕性好,性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下,適用于多種基體材料,可制備多姿多彩的膜層,鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。


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