脈沖激光沉積裝置公司優選企業,沈陽鵬程真空技術

發布時間：2020-12-29 08:23

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脈沖激光沉積

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助。

在一階段，激光束聚焦在靶的表面。達到足夠的高能量通量與短脈沖寬度時，靶表面的一切元素會快速受熱，到達蒸發溫度。物質會從靶中分離出來，而蒸發出來的物質的成分與靶的化學計量相同。物質的瞬時熔化率大大取決于激光照射到靶上的流量。熔化機制涉及許多復雜的物理現象，例如碰撞、熱，與電子的激發、層離，以及流體力學。激光脈沖能做到特別短，譬如“皮秒”級別，就是說脈沖的時間為皮秒這個數量級——而1皮秒等于一萬億分之一秒。

在第二階段，根據氣體動力學定律，發射出來的物質有移向基片的傾向，并出現向前散射峰化現象。空間厚度隨函數cosnθ而變化，而n>>1。激光光斑的面積與等離子的溫度，對沉積膜是否均勻有重要的影響。靶與基片的距離是另一個因素，支配熔化物質的角度范圍。亦發現，將一塊障板放近基片會縮小角度范圍。PioneerPLD系統的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。

第三階段是決定薄膜質量的關鍵。放出的高能核素碰擊基片表面，可能對基片造成各種破壞。高能核素濺射表面的部分原子，而在入射流與受濺射原子之間，建立了一個碰撞區。膜在這個熱能區（碰撞區）形成后立即生成，這個區域正好成為凝結粒子的較佳場所。只要凝結率比受濺射粒子的釋放率高，熱平衡狀況便能夠快速達到，由於熔化粒子流減弱，膜便能在基片表面生成。隨著激光技術和設備的發展，特別是高功率脈沖激光技術的發展，脈沖激光沉積（PLD）技術的特點逐漸被人們認識和接受以上就是關于脈沖激光沉積的相關內容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話。

脈沖激光沉積系統的配置介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售脈沖激光沉積，我們為您分析該產品的以下信息。

1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，工作環境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分RHEED;