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磁控鍍膜機的濺射方式有哪些

磁控鍍膜機的濺射方式有哪些 下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。 主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積. 現在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩定等缺點. 直流濺射發展后期,人們在其表面加上磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現階段廣泛應用的一種濺射方法. 而后又有中頻濺射,提高了陰極發電速率,不易造成放電、靶材等現象. 而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

真空鍍膜機中鎢絲的用途

真空鍍膜機中鎢絲的用途： 鎢絲是真空鍍膜機中不可或缺的材料，下面為大家講一下這種材料的使用用途。 鎢絲除少量用作高溫爐的發熱材料、電子管的熱子和復合材料的加強筋等外，絕大部分都用于制作各種白鎢絲熾燈和鹵鎢燈的燈絲以及氣體放電燈的電極。對用作氣體放電燈陰極的鎢絲或鎢桿，為降低其電子逸出功，須加入0.5～3％的釷，稱為鎢釷絲。由于釷是一種性元素，污染環境，故有用來代替釷作成鎢絲或鎢桿的。但的蒸發率高，所以鎢絲或鎢桿只能用于小功率的氣體放電燈。

真空鍍膜機中鎢絲的注意事項

真空鍍膜機中鎢絲的注意事項： 鎢在常溫下有較好的耐酸、堿能力，但在潮濕的空氣中易被氧化，所以細鎢絲不能在潮濕環境中貯存過久。另外鎢在1200℃上下就開始與碳起反應生成鎢的碳化物，所以對燈絲的燒氫處理要注意這個問題，否則鎢與其表面的石墨潤滑劑起反應，則燈絲就要變脆斷裂。 鎢絲一旦經高溫使用發生再結晶以后就變得很脆，在受沖擊或震動的情況下極易斷裂。在一些要求高可靠性的電光源產品中，為防止燈絲的斷裂，常在摻雜鎢絲中加入3～5％的錸，稱為鎢錸絲，它可以使鎢的延脆轉變溫度下降到室溫或室溫以下。這是一種很奇特的錸效應，至今還未發現一種元素能代替錸，在鎢中產生同樣效應。

磁控濺射鍍膜技術介紹

磁控濺射鍍膜技術介紹 磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構簡單、電器控制穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有非常重要的影響。 磁控濺射鍍膜技術在陶瓷表面裝飾中采用的工藝流程如下： 陶瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空→plasma清洗→加熱→通氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表面檢驗→性能測試→包裝、入庫。 以上工藝技術就是以磁控濺射鍍膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，制備出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。 磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對于陶瓷電子消費品的表面裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下，通過相應的物理化學手段來對金屬材料進行轉換，以粒子的方式吸附在材料表面，形成鍍膜層，相比較普通真空電鍍，NCVM的技術含量更高，加工流程也更加復雜。 磁控濺射鍍超硬膜，結合NCVM光學鍍膜技術，其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高等特點，已在電子產品中獲得大量應用。隨著電子工業的迅猛發展，NCVM鍍膜憑借本身優越的性能，在真空電鍍技術領域脫穎而出，成為了電子消費品生產中的一項核心技術，在保證良好處理效果的同時，也能夠消除電鍍過程中重金屬元素對于人體的危害，對其環境污染問題進行解決。