臺灣等離子化學氣相沉積性價比出眾「多圖」

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

Parylene C

是一種很好的介電材料，具有特別很是低的介質損耗、是系列中第二個具有商業(yè)價值的成員。

Parylene HT(SCS)是系列中的第三個成員.具有更低的介電常數(即透波性能好)。它由雷同的單體系方式成，只是將其中兩個芳香烴氫原好的熱穩(wěn)固性，長期可在350攝氏度使用，短期可子被氯原子庖代。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

Parylene是獨特的聚對二甲苯(poly-P-xylylene)聚合物系列的通用名稱，是一種分子級敷型涂層材料，根據分子結構的不同，可分為Parylene N、C、D、HT、F型等多種類型。

等離子化學氣相沉積

為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。

生長摻雜的GaAlAs單晶層的分子束外延裝置。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當它被加熱到一定溫度時，爐中元素以束狀分子流射向基片。基片被加熱到一定溫度，沉積在基片上的分子可以徙動，按基片晶格次序生長結晶用分子束外延法可獲得所需化學計量比的高純化合物單晶膜，薄膜慢生長速度可控制在1單層／秒。

通過控制擋板,可地做出所需成分和結構的單晶薄膜。分子束外延法廣泛用于制造各種光集成器件和各種超晶格結構薄膜。

電場對離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和離子對基片的濺射清洗作用，使膜層附著強度大大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點，并有很好的繞射性，可為形狀復雜的工件鍍膜。

真空鍍膜加工技能是一種新穎的資料組成與加工的新技能，是外表工程技能范疇的主要組成部分。真空鍍膜加工技能是使用物理、化學手法將固體外表涂復一層特殊功能的鍍膜，然后使固體外表具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝修等許多優(yōu)于固體資料本身的優(yōu)勝功能，到達提高商品質量、延伸商品壽數、節(jié)約能源和取得明顯技能經濟效益的效果。