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發(fā)布時間：2021-10-05 15:49
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為探究工藝參數對鋁合金微弧氧化膜層中蛇紋石含量的影響，采用微弧氧化技術，分別在雙向恒壓、單向恒壓和單向恒流模式下，在添加蛇紋石微納米顆粒的電解液中進行試驗，在ZL109鋁合金表面原位生長陶瓷層。采用SEM、EDS及XRD對膜層進行分析。
結果表明：在單向恒壓和單向恒流模式下制得的微弧氧化膜層的蛇紋石含量相比雙向恒壓模式分別提高了92%和113%；
微弧氧化工藝
微弧氧化工藝技術是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術。微弧氧化工藝技術工藝簡單，對環(huán)境污染小，具備很大的優(yōu)越性，它制備的膜層特點鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結合，結合牢固，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢，微弧氧化技術已被廣泛應用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。
微弧氧化工藝流程
1、預處理
預處理的原因是由于鋁、鐵等合金長時間放置在空氣中，表面易發(fā)生氧化，生成一層幾個微米的鈍化膜，同時，其表面又極易吸附周圍環(huán)境中的雜質，形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能，在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預處理。
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