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發布時間:2021-07-25 16:12  
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光刻膠定義
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光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說法,因為光刻膠從外觀上呈現為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時,光刻膠材料本身的特性會發生改變,經過顯影液顯影后,曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面,這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上,而后續的刻蝕、沉積等工藝,就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上,后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠按其形成圖形的極性可以分為:正性光刻膠和負性光刻膠。正膠指的是聚合物的長鏈分子因光照而截斷成短鏈分子;負膠指的是聚合物的短鏈分子因光照而交鏈長鏈分子。 短鏈分子聚合物可以被顯影液溶解掉,因此正膠的曝光部分被去掉,而負膠的曝光部分被保留。
光刻膠一般由4部分組成:樹脂型聚合物(resin/polymer),溶劑(solvent),光活性物質(photoactive compound,PAC),添加劑(Additive)。 其中,樹脂型聚合物是光刻膠的主體,它使光刻膠具有耐刻蝕性能;溶劑使光刻膠處于液體狀態,便于涂覆;光活性物質是控制光刻膠對某一特定波長光/電子束/離子束/X射線等感光,并發生相應的化學反應;添加劑是用以改變光刻膠的某些特性,如控制膠的光吸收率/溶解度等。
光刻膠的相關內容
光刻膠必須滿足幾個硬性指標要求:高靈敏度,高對比度,好的蝕刻阻抗性,高分辨力,易于處理,高純度,長壽命周期,低溶解度,低成本和比較高的玻璃化轉換溫度(Tg)。主要的兩個性能是靈敏度和分辨力。
感光膠的主要成分是樹脂或基體材料、感光化合物以及可控制光刻膠機械性能并使其保持液體狀態的溶劑。樹脂在曝光過程中改變分子結構。感光化合物控制樹脂定相的化學反應速度。溶劑使得膠能在圓片上旋轉擦敷并形成薄瞙。沒有感光化合物的光刻膠稱為單成分膠或單成分系統,有一種感光劑的情形下,稱為二成分系統。因為溶劑和其他添加物不與膠的感光反應發生直接關系,它們不計入膠的成分。
在曝光過程中,正性膠通過感光化學反應,切斷樹脂聚合體主鏈和從鏈之間的聯系,達到削弱聚合體的目的,所以曝光后的光刻膠在隨后顯影處理中溶解度升高。曝光后的光刻膠溶解速度幾乎是未曝光的光刻膠溶解速度的10倍。而負性膠,在感光反應過程中主鏈的隨機十字鏈接更為緊密,并且從鏈下墜物增長,所以聚合體的溶解度降低。見正性膠在曝光區間顯影,負性膠則相反。負性膠由于曝光區間得到保留,漫射形成的輪廓使顯影后的圖像為上寬下窄的圖像,而正性膠相反,為下寬上窄的圖像。
微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?
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一般來說線寬的用正膠,線窄的用負膠,正性光刻膠比負性的精度要高,負膠顯影后圖形有漲縮,負性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優于0.5μm 導致影響精度,正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負性膠的分辨率,但是薄負性膠會影響。同種厚度的正負膠,在對于抗濕法和腐蝕性方面負膠更勝一籌,正膠難以企及。
正性光刻膠的操作工藝
(1)合成醛樹脂。將原料混和甲醛送人不銹鋼釜,加入適量草酸為催化劑,加熱回流反應5~6h,然后減壓蒸餾去除水及未反應的單體酚,得到醛樹脂。(2)合成感光劑。在裝有攪拌器的夾套反應罐中,先將三羥基二苯甲酮和215酰氯加至中攪拌下溶解,待完全溶解后,滴加有機堿溶液做催化劑,控制反應溫度30~35℃,滴加完畢后,繼續反應1h。將反應液沖至水中,感光劑析出,離心分離,干燥。(3)配膠。將合成的樹脂、感光劑與溶劑及添加劑按一定比例混合配膠,然后調整膠的各項指標使之達到要求。后過濾分裝,光刻膠首先經過板框式過濾器粗濾,然后轉入超凈間(100級)進行超凈過濾,濾膜孔徑0.2mm,經超凈過濾的膠液分裝即為成品。