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液壓升降藍(lán)式研磨機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

液壓升降藍(lán)式研磨機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn) 研磨效率很高，產(chǎn)品細(xì)度好 強(qiáng)大的動(dòng)能驅(qū)動(dòng)氧化鋯撥桿使腔體內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生不規(guī)則運(yùn)動(dòng)，相互之間高速碰撞、摩擦，使粉料粒徑快速變小；研磨細(xì)度普遍可達(dá)5um左右，部分產(chǎn)品可達(dá)亞微米甚至納米級(jí)。 操作方便、安全 設(shè)備通過油缸作為升降執(zhí)行器，通過油泵控制研磨裝置上升、停止、下降，操作簡單、穩(wěn)定；帶有不同形式的抱夾裝置，可以快速將研磨桶固定，防止桶在工作中發(fā)生位移造成安全事故。溫升小，產(chǎn)品穩(wěn)定所配料桶帶雙層冷卻夾套，在設(shè)備運(yùn)行時(shí)通水冷卻，起到很好的冷卻效果，常規(guī)溫升小于10?；可以定制研磨腔體帶冷卻。 非標(biāo)性強(qiáng) 液壓升降籃式研磨機(jī)電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)帶動(dòng)撥桿和底部分散盤高速旋轉(zhuǎn)，使分散盤上部及籃腔內(nèi)部形成真空，漿料被吸入籃式研磨腔內(nèi)。撥桿驅(qū)動(dòng)腔內(nèi)的研磨介質(zhì)產(chǎn)生向各個(gè)方向的力，物料中的顆粒受到介質(zhì)不斷地碰撞及摩擦，粒徑變小，粒徑范圍變窄；分散盤的高速運(yùn)轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流將腔內(nèi)物料抽吸出來，再循環(huán)至進(jìn)料，具有非常顯著的分散混合效果，通過液壓泵工作驅(qū)動(dòng)液壓柱塞升降，帶動(dòng)整個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)和研磨裝置升降。

工件的大小對(duì)研磨難度的影響

工件的大小對(duì)研磨難度的影響 由于大工件在研磨時(shí)，所磨的面積比小工件要大很多，所以選擇的研磨盤，壓重塊等肯定也是要大很多的。大面積的工件在固定和加壓時(shí)，如果稍微有一點(diǎn)點(diǎn)受力不均勻，所受到的張力也就越大，容易產(chǎn)生斷裂。而小工件，這種壓力點(diǎn)不均勻的概率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于大尺寸工件，并且小工件平放受壓時(shí)所受張力沒那么大，不容易碎。 其次，我們進(jìn)行對(duì)比論證：400mm直徑的工件和30mm直徑的工件同時(shí)放在研磨拋光機(jī)上進(jìn)行研磨，面積小的比面積大的受力均勻，切削速度也要快一倍。而面積大的工件，磨削過程中由于受力面廣，效果不均勻的概率要大，所以更加難以實(shí)現(xiàn)效果。 后，我們舉一個(gè)實(shí)際的例子來進(jìn)行后說明：我們從實(shí)驗(yàn)室拿兩塊厚度均等的硅片來做實(shí)驗(yàn)，硅片1，直徑500mm厚度1mm，硅片2，直徑20mm，厚度1mm，將他們同時(shí)放到13-6B雙面研磨機(jī)上進(jìn)行研磨。要求效果：平面度2u,平行度：2u，鏡面效果。開啟設(shè)備后，采用相同的研磨耗材對(duì)兩塊工件同時(shí)研磨，在研磨10分鐘后，硅片1，表面三項(xiàng)指標(biāo)均為達(dá)到；硅片2，達(dá)到。 由此三點(diǎn)，我們得出大小工件研磨難度有著很大差異性。在研磨要求均等的情況下，大工件較難實(shí)現(xiàn)一些，且所花的時(shí)間更長一些。而小工件則較易實(shí)現(xiàn)，研磨效率也要高于大尺寸工件。

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義

研磨拋光中冷卻研磨盤有什么意義 從事平面研磨加工的朋友都知道在超精密研磨拋光較薄脆零件過程中，研磨盤和工件是做相對(duì)摩擦運(yùn)動(dòng)的，研磨盤與工件的局部接觸區(qū)域往往會(huì)出現(xiàn)高溫，有時(shí)甚至可以達(dá)到幾百度。局部的高溫不但會(huì)零件表面，形成加工變質(zhì)層，而且會(huì)引起零件的局部變形，同時(shí)，平面研磨機(jī)局部高溫區(qū)的熱量還會(huì)以熱傳導(dǎo)的方式傳到整個(gè)研磨盤，使研磨盤也會(huì)發(fā)生熱變形，研磨盤作為研磨加工的磨具，其面型精度能在一定程度上“”到工件表面。 因此，平面研磨機(jī)在進(jìn)行研磨拋光過程?hào)|研磨盤自身的熱變形對(duì)工件的面型精度一定會(huì)有影響。而且研磨盤溫度越高，越不均勻，工件所受的變形影響越大。因此及時(shí)地將局部研磨盤高溫區(qū)的熱量驅(qū)散，合研磨盤各部分的溫度比較均勻且處于較低的水平是非常的必要的。