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              發(fā)布時間:2020-12-20 09:17  

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              鍍膜常用在相機鏡頭、近視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射,增加透光率,抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的鍍膜,也使的成像色彩平衡的不同。此外,鍍膜尚可延遲鏡片老化、變色的時間。眼鏡鍍膜常用藥品:二氧化鋯(ZrO?)、二氧化硅(SiO?)、ITO(增加鏡片導電抗紫外線)、HT-100(防水膜,防止老化和氧化)。

              鍍膜原理:高電壓電子槍將以上幾種藥品汽化,均勻分布在鏡片表面。



              設備使用一個星期后(三班),因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時,應對工作室及襯板進行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫fo酸水溶液里,氫fo酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。


              靶材輸入電流及濺射時間可以控制,容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響,靶材與基板位置可自由安排。基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續(xù)表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。薄膜形成初期成核密度高,可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。靶材的壽命長,可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀,配合機臺的特殊設計做更好的控制及比較有效率的生產(chǎn)。


              磁控濺射真空鍍膜機運作就是通過真空狀態(tài)下正交磁場是電子轟擊亞氣形成的亞離子再轟擊靶材,靶材離子沉積于工件表面成膜。

              真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來進行控制,每個抽氣口都要同時開動并力度一致,這樣就能控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內的壓強就不能均勻了,壓強對離子的運動是存在一定的影響的。另外抽氣的時間也要控制,太短會造成真空度不夠,但太長又浪費資源,不過有真空計的存在,要控制好還是不成問題的。



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