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發(fā)布時(shí)間:2021-09-18 08:41  
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真空鍍膜應(yīng)用,簡(jiǎn)單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種鍍膜,它的主要方法包括以下幾種
1、真空蒸鍍:其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
2、濺射鍍膜:濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過(guò)惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
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鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類:裝飾鍍和工具鍍。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長(zhǎng)其使用壽命。
濺射鍍膜技術(shù)是用離子轟擊靶材表面,濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離,其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體,擊出陰極靶體原子或分子,飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術(shù)是在濺射鍍膜基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái),與濺射鍍膜相比,沉積速率更快,涂層致密且與基體附著性好。