杭州銅盤研磨價格合理,新光速光電科技公司

正確處理研磨的運動軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對研具的運動﹐要盡量保證工件上各點的研磨行程長度相近﹔②工件運動軌跡均勻地遍及整個研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運動軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運動平穩(wěn)﹔④工件上任一點的運動軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進行。

當(dāng)磨機由于給礦量增大操作不慎引起“脹肚”現(xiàn)象。這時除聲音有異常外，觀察電流表就會發(fā)現(xiàn)電流下降。它說明雙面研磨機內(nèi)鋼球和礦石已不做沖擊和磨剝作用了，而是與筒體一起旋轉(zhuǎn)，此時電機作功，所以電機運轉(zhuǎn)就達不到額定電流了。     如果傳動部位發(fā)生異常，如有別勁地方或聯(lián)結(jié)部位螺絲松動等現(xiàn)象，電流就會出現(xiàn)周期性的上升下降擺動嚴(yán)重。     因此，通過觀察電流表的電流變化是可以發(fā)現(xiàn)設(shè)備和生產(chǎn)條件上的一些不正常現(xiàn)象，雙面研磨機操作工人在生產(chǎn)過程中必須經(jīng)常注意觀察電流變化。

（3 ）精拋

精拋主要使用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是 9 μ m （#1800 ） ~ 6 μ m （#3000 ） ~3 μ m （#8000 ）。 9 μ m 的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除 #1200 和 #1500 號砂紙留下的發(fā)狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進行拋光，順序為 1 μ m （#14000 ） ~ 1/2 μ m （#60000 ） ~1/4 μ m （#100000 ）。

精度要求在 1 μ m 以上（包括 1 μ m ）的拋光工藝在模具加工車間中一個清潔的拋光室內(nèi)即可進行。若進行更加精密的拋光則必需一個潔凈的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數(shù)個小時工作后得到的高精密拋光表面。