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發布時間:2021-01-01 10:08  
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由于坩堝是熱重分析中的常用儀器,對質量要求非常精準,取用坩堝一般要用坩堝鉗;坩堝可以加熱不含水的物質;坩堝的材料必須耐高溫,陶瓷的坩堝使用的溫度上限約為800度,坩堝可以直接加熱,或者放進高溫加熱爐中加熱;熱穩定性:針對石墨坩堝急熱急冷的使用條件,進行特別設計以保證產品質量的可靠性。下面說說高純氧化鋁坩堝、剛玉瓷坩堝特點:
99氧化鋁瓷材料用于制作高溫坩堝、耐火爐管及特殊耐磨材料,如陶瓷軸承、陶瓷密封件及水閥片等,用作耐腐蝕、耐磨部件。
1.高純度氧化鋁,氧化鋁含量大于99%
2.耐化學腐蝕
3.耐高溫,正常使用在1600℃,短期1800℃
4.耐驟冷驟熱,不易炸裂
5.采用注漿成型,密度高
坩堝使用注意事項:
注意不要給機械帶來外力撞擊,更不要從高處落下或撞擊。不能夠被水淋濕,這種石墨坩堝需要保存在干燥的地方。在筑熔干燥后不能使其接觸到水。使用期間不能夠將火焰等直接對準坩堝,如果噴到,坩堝底部會出現明顯的黑色痕跡。在停止使用之后要將剩余的材料盡量取出,坩堝內不能留有殘液。像是除渣劑等在使用中要適量,防止侵蝕坩堝,過量使用會導致坩堝發生裂。坩堝噴涂是利用不同于其它噴涂技術和方法,坩堝噴涂是涂裝坩堝通過加熱使其液態混合物(氮化硅)迅速附著在坩堝表面。
坩堝的使用注意事項:
1、坩堝可在1450度以下使用,分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明坩堝是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。當今,世界半導體工業發達國家已用此坩堝取代了小的透明坩堝。他具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅,發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。
2、石英質脆,易破,使用時要注意。
3、除HF外,普通稀無機酸可用作清洗液。國內常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國內坩堝生產廠家生產的18和20英寸坩堝技術都比較成熟。其生產使用原料石英砂主要由美國進口。國內產的石英砂純度都達不到其要求。其原料里雜質在生產時高溫熔制過程中產生黑點氣泡等 對拉制單晶硅時其穩定性都有一定影響。該涂層與基體的結合主要以化學結合為主,兼有機械結合,聯合強度高。
4、不能和HF接觸,高溫時,極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。