氨逃逸檢測(cè)值得信賴,藍(lán)光電子專注環(huán)境治理

SCR脫硝系統(tǒng)的氨逃逸率控制相關(guān)技術(shù)研究

電廠實(shí)際運(yùn)行過程十分復(fù)雜，難以達(dá)到排放指標(biāo)時(shí)，往往通過增加噴氨量來提高脫硝效率，造成氨逃逸率超標(biāo)。過量的逃逸氨和煙氣中的SO3發(fā)生反應(yīng)生成NH4HSO4，導(dǎo)致空氣預(yù)熱器堵塞、除塵效率下降、催化劑受損等一系列問題，嚴(yán)重時(shí)還會(huì)影響機(jī)組運(yùn)行，降低系統(tǒng)經(jīng)濟(jì)性和安全性。嚴(yán)格控制脫硝系統(tǒng)氨逃逸率已是燃煤機(jī)組運(yùn)行不容忽視的問題。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備相關(guān)信息，歡迎來電咨詢。

對(duì)于NH3氨逃逸在線監(jiān)測(cè)的大致介紹

NH3氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用TDLAS技術(shù)（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)），為目前常用的氣體測(cè)量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應(yīng)速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測(cè)量等特點(diǎn)，為實(shí)時(shí)準(zhǔn)確地反映NH3變化提供了可靠保證。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備相關(guān)信息，歡迎致電藍(lán)光電子詳詢，我們將會(huì)竭誠(chéng)為您解答與服務(wù)。

氨逃逸的壞處你知道嗎

逃逸氨會(huì)造成環(huán)境污染，并增加運(yùn)行成本。逃逸氨會(huì)腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活和堵塞，大大縮短催化劑壽命。逃逸氨會(huì)與煙氣中的S03發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽，沉淀附著在下游設(shè)備的表面，造成了設(shè)備腐蝕，使得維護(hù)費(fèi)用和工作量顯著增加。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備相關(guān)信息，歡迎致電藍(lán)光電子詳詢，我們將會(huì)竭誠(chéng)為您解答與服務(wù)。

逃逸氨造成了設(shè)備腐蝕，使得維護(hù)費(fèi)用和工作量顯著增加。因此SCR/SNCR脫硝過程需要對(duì)氨逃逸進(jìn)行在線監(jiān)測(cè)分析，以便優(yōu)化SCR/SNCR工藝中還原劑氨的注入量，從而提高脫硝效率，避免環(huán)境污染。控制氨逃逸還能有效地減少銨鹽的生成，避免造成對(duì)下游設(shè)備的腐蝕和危害。如想了解更多氨逃逸在線監(jiān)測(cè)設(shè)備相關(guān)信息，歡迎致電藍(lán)光電子詳詢。