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              發布時間:2021-01-19 02:41  

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              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:

              本底真空度: 本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。一般本底真空應該進入5-7*10-3。

              靶基距:靶基距是影響成膜速率的重要因素之一,隨著靶基距增加,被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數增多,同時等離子體密度也減弱,動能減少,沉積速率降低,但膜層外觀較好。靶基距太小,沉積太快,工件溫升大,膜層外觀差。

              真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

              真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中,然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發,當蒸發原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結形成具有一定厚度的沉積層日。


              鍍膜玻璃的特點

              1。熱反射玻璃的特點:

              通過鍍不同薄膜,控制對太陽直接輻射的反射、透過和吸收,達到調節熱量傳遞的目的。熱反射鍍膜玻璃具有各種各樣的顏色,熱反射玻璃有以下特點:

              1能有效控制太陽直接輻射能的入射量。在夏季白天太陽直接照射時,與普通透明玻璃相比,可將向室內傳遞的太陽輻射熱減少15%--70%;

              2豐富多采的反射色調和佳的裝飾效果;

              3良好的遮避作用;

              4能減弱紫外光的透過。



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