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離子束刻蝕機(jī)的工作原理

通入工作氣體ya氣，氣壓10-2- 10-Torr之間，陰極放1射出的電子向陽(yáng)極運(yùn)動(dòng)，在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中，電子將工作氣體分子電離，在樣品室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電形成等離子體。其中電子在損失能量后到達(dá)陽(yáng)極形成陽(yáng)極電流，而ya離子由多孔柵極引出，在速系統(tǒng)作用下，形成一個(gè)大面積的、束流密度均勻的離子束。為減少束中空間電荷靜電斥力的影響，減少正離子轟擊基片時(shí)，造成正電荷堆積，離子束離開(kāi)加速電極后，被中和器發(fā)出的電子中和，使正離子束變成中性束，打到基片上，進(jìn)行刻蝕。

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離子束刻蝕的入射角

在離子束刻蝕過(guò)程中，選擇合適的入射角可以提高刻蝕效率，這只是一個(gè)方面。另一個(gè)方面是靠合適的入射角度控制刻蝕圖形的輪廓。下圖給出了不同角度的刻蝕結(jié)果。

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離子束刻蝕機(jī)

離子束是指以近似一致的速度沿幾乎同一方向運(yùn)動(dòng)的一群離子。離子源用以獲得離子束的裝置。在各類(lèi)離子源中，用得較多的是等離子體離子源，即用電場(chǎng)將離子從一團(tuán)等離子體中引出來(lái)。這類(lèi)離子源的主要參數(shù)由等離子體的密度、溫度和引出系統(tǒng)的質(zhì)量決定。屬于這類(lèi)離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙等離子體源、富立曼離子源等。另一類(lèi)使用較多的離子源是電子碰撞型離子源，主要用于各種質(zhì)譜儀器中。