衢州真空鍍膜機(jī)廠家歡迎來(lái)電 至成鍍膜設(shè)備

卷繞式真空鍍膜機(jī)工作原理

現(xiàn)在的真空鍍膜機(jī)做得非常專(zhuān)業(yè)性了，有針對(duì)車(chē)燈產(chǎn)品研發(fā)的，有針對(duì)工模具硬質(zhì)膜研發(fā)的，等等，現(xiàn)在還有一種是針對(duì)塑料膜研發(fā)的，卷繞式真空鍍膜機(jī)。大家也知道，像包裝紙，塑料袋這些產(chǎn)品，要在其上面鍍膜，還要保證膜層的均勻性，又不會(huì)使包裝約塑料袋等產(chǎn)生皺折，于是就研發(fā)出了卷繞式真空鍍膜機(jī)，它通過(guò)把產(chǎn)品固定并通過(guò)卷繞的方法，在產(chǎn)品上鍍膜，鍍出來(lái)的膜層只有0.01到0.2μm的厚度而已。商標(biāo)印刷機(jī)在真空鍍膜機(jī)的真空室中分為上下兩個(gè)部分，而下面的又分為左右兩個(gè)部分，在下面的左右兩邊底下都放置著一個(gè)蒸發(fā)源，在蒸發(fā)源上放這靶材材料，當(dāng)啟動(dòng)蒸發(fā)源后通過(guò)電阻加熱把靶材蒸發(fā)上升到產(chǎn)品上沉積成膜，另外在產(chǎn)品不成膜的另一邊放置輝光放電發(fā)生器，產(chǎn)生放電氣體，使產(chǎn)品不會(huì)產(chǎn)生皺折。對(duì)于那些容易皺折的產(chǎn)品的鍍膜，卷繞式真空鍍膜機(jī)確實(shí)是一種非常好的設(shè)計(jì)。

卷繞式真空鍍膜機(jī)具有運(yùn)行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護(hù)方便、性能穩(wěn)定等特點(diǎn)。卷繞系統(tǒng)采用直流或交流變頻調(diào)速，具有運(yùn)行平穩(wěn)、速度高、對(duì)原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面整齊等特點(diǎn)；張力控制采用進(jìn)口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，運(yùn)作快速的特點(diǎn)；強(qiáng)勁的抽真空系統(tǒng)，配備節(jié)能維持泵。

真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問(wèn)題

無(wú)論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來(lái)講是工件架的中間位置。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響化。

在過(guò)去幾年中，越來(lái)越多的用戶(hù)要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶(hù)對(duì)性能的要求不僅沒(méi)有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問(wèn)題。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。

金屬帶鍍膜設(shè)備

HCMRC系列采用模塊化設(shè)計(jì)，是用于薄膜鍍膜的靈活生產(chǎn)工具。通過(guò)我們各種技術(shù)的獨(dú)特組合，可以生產(chǎn)高反射膜、高吸收膜和裝飾性鍍膜。此外，為了更廣泛的應(yīng)用，我們還可以沉積防觸摸膜層或者防腐膜層。

不銹鋼帶卷繞鍍膜設(shè)備采用公司新開(kāi)發(fā)的磁控濺射鍍膜技術(shù)、陰極電弧離子鍍膜技術(shù)及獨(dú)特設(shè)計(jì)的離子源輔助沉積鍍膜技術(shù)等多種技術(shù)組合，成功應(yīng)用在大卷徑寬幅高真空連續(xù)卷繞鍍膜設(shè)備中，可正反面鍍制裝飾性膜層和防腐蝕膜層，改善金屬卷材表面特性，擴(kuò)展應(yīng)用范圍。

模塊化設(shè)計(jì)概念，帶材糾偏系統(tǒng)、等離子體預(yù)處理、磁控濺射系統(tǒng)、在線測(cè)量和工藝控制系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)靈活組合。膜層均勻性好，沉積，鍍膜速度快，是大型不銹鋼卷連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線的良好選擇。

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點(diǎn)?

pvd裝飾鍍膜有哪些優(yōu)點(diǎn)？ PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)的主要特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)—和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)： A.膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨B.離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件0v R0S4C.膜層沉積速率快，生產(chǎn)D.可鍍膜層種類(lèi)廣泛E.膜層性能穩(wěn)定、安全性高(獲得FDA認(rèn)證). 鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品掉膜是怎么回事?一、產(chǎn)品表面潔凈度不夠，離子源清洗氣放大時(shí)間長(zhǎng)點(diǎn)。二、清洗是否有加了清洗劑，或者更換了清洗劑，建議用純水先試一下。三、工藝參數(shù)是否有變動(dòng)在膜厚和電流上可以做點(diǎn)調(diào)整。