揚(yáng)州掩膜版擇優(yōu)推薦

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用選定的圖像、圖形或物體，對(duì)處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來(lái)控制圖像處理的區(qū)域或處理過(guò)程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱(chēng)為掩模或模板。光學(xué)圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時(shí)也用多值圖像。

光罩（英文：Reticle, Mask），在制作IC的過(guò)程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型於晶圓上，必須透過(guò)光罩作用的原理，類(lèi)似于沖洗照片時(shí)，利用底片將影像至相片上。

光刻（英語(yǔ)：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說(shuō)的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。光刻工藝是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)器件結(jié)構(gòu)，再通過(guò)刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。

集成電路（英語(yǔ)：integrated circuit，縮寫(xiě)：IC；凹版網(wǎng)點(diǎn)由于制版方式的不同，版輥上所反映的網(wǎng)點(diǎn)也有所差別：電雕雕刻網(wǎng)點(diǎn)隨著網(wǎng)成的變化，網(wǎng)點(diǎn)的大小和深度也跟隨著變化。德語(yǔ)：integrierter Schaltkreis）、或稱(chēng)微電路（microcircuit）、微芯片（microchip）、晶片/芯片（chip）在電子學(xué)中是一種把電路（主要包括半導(dǎo)體設(shè)備，也包括被動(dòng)組件等）小型化的方式，并時(shí)常制造在半導(dǎo)體晶圓表面上。前述將電路制造在半導(dǎo)體芯片表面上的集成電路又稱(chēng)薄膜（thin-film）集成電路。另有一種厚膜（thick-film）集成電路（hybrid integrated circuit）是由獨(dú)立半導(dǎo)體設(shè)備和被動(dòng)組件，集成到襯底或線路板所構(gòu)成的小型化電路。