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電子氣體污染控制要求日趨嚴格隨著電子消費品的升級換代，產(chǎn)品制造尺寸越來越大，產(chǎn)品良率和缺陷控制越來越嚴格，整個電子工業(yè)界對電子氣體氣源純度，以及杜絕輸送系統(tǒng)二次污染的要求越來越苛刻。基本上工業(yè)界對電子氣體氣相不純物以及顆粒度污染提出的技術(shù)指標，直接與分析儀器技術(shù)進步帶來的較低檢測極限（直接關(guān)聯(lián)。如傳統(tǒng)的激光顆粒測試儀可測到微米，而核凝結(jié)技術(shù)可達到微米。目前超大規(guī)模集成電路制造線寬已經(jīng)發(fā)展到納米，對于大宗氣體的純度都要求在級別，顆粒度控制直指分析儀器的下限。實驗室超高亮度技術(shù)指標已達到以上，對于氫氣和氨氣的純度控制要求也都小于氨氣則釆用多級精餾生產(chǎn)技術(shù)指標到達的白氨的氫氣需要采用先進的鈀膜純化器提純至。

真空鍍膜時為什么要用到高純氣體

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產(chǎn)出來的，液態(tài)氣體色澤也會不一樣，氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境鍍鈦和鉻時，工業(yè)氣體充入氮氣可生產(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品，則需要加入氣體加入氧氣則生產(chǎn)藍色的產(chǎn)品。除了氣體外所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、溫度、時間等條件影響。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氬氣為保護性氣體，防止氧化反應影響鍍層質(zhì)量。氬氣在電鍍過程中有何用?

氬氣不參與反應，只是增加氣壓，改善鍍膜時靶的放電條件，氬氣不是用于鍍膜，主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮氣和氬氣都是惰性氣體,沖進去以后,一 可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮氣和氬氣在擴散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來產(chǎn)品的色彩.

真空鍍膜行業(yè)中，氬氣的流量大小具體如何控制?

如果是說鍍膜時為了調(diào)節(jié)壓力使用的氣體 個人認為如下：氬氣如果只是調(diào)節(jié)壓力，一次壓可以不計，但是二次壓要小于0.5個大氣壓。氮氣也是，主要是因為如果大了，會導致真空倉內(nèi)的壓力變化太劇烈，導致誤差。如果是使用離子源，那么氬氣入氣量不宜過大，大了導致離子量過大，燒壞部件。壓力和上邊沒什么差別。

任何固體材料在大氣環(huán)境下都會溶解和吸附一些氣體，當材料置于真空狀態(tài)時就會因為脫附、解析而出氣。出氣的速率與材料中的氣體含量成正比。不同的材料解析的氣體成分及解析的溫度及時間是不同的。

各種泵對不同成分的氣體抽氣速率也是不一樣的。抽真空時,首先抽走的是容器中的大氣(這部份氣體很快被抽走,10-1Pa時爐內(nèi)氣體基本抽盡),然后是材料表面解吸的氣體、材料內(nèi)部向表面擴散出來的氣體,以及通過器壁滲透到真空中的氣體.因此在貨品進入爐內(nèi)之后，都要進行保溫除氣，因為貨品在進爐前會吸附一些雜質(zhì)氣體，我們要通過適當?shù)募訜幔屵@些氣體解析脫附貨品的表面。以不銹鋼為例，除了在它表面吸附的氣體之外，在不斷的加熱保溫過程中鋼內(nèi)部還會析出一些氣體，這些氣體的存在往往對薄膜的純度和顏色有較大的影響，對膜層附著力影響也很大。

因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關(guān)鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。

氦氣和氮氣的區(qū)別

大家都知道制作氦氣的方法有哪些，想要獲取氦氣首先得找到蘊含氦氣的然氣，再通過各種方法獲得粗氦，再按照需求精煉成不同純度的氦氣，所花的代價非常大，氦氣的價格也就水漲船高。

反觀氮氣，只需要將液態(tài)空氣分餾就可以獲得純度不高的氮氣，一般氮氣都是作為工業(yè)制氧時的副產(chǎn)品出現(xiàn)。而且氦氣和氮氣相比，氮氣還有一個優(yōu)勢就是可以在實驗室獲取。實驗室中可以通過氯化銨混合亞肖酸鈉加熱、純空氣通過灼熱銅粉或銅絲網(wǎng)去氧、氨氣通過灼熱氧化銅這些方法人工獲取氦氣，但是可沒聽說過氦氣有實驗室制取方法。