臺灣五金配件納米鍍膜設備優選企業,拉奇納米鍍膜

離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。　　

全SUS304不銹鋼機身，隱藏式雙層冷卻水套設計　　

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩定性與均勻性　　

采用多路進氣系統，精準控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。　　

裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結合力和光潔度　　

采用創新工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質量管理體系認證；

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術，它是利用物質在氣相中產生的物理或(及)化學反應而在產品表面沉積單層或多層的、單質或化合物的膜層，從而使產品表面獲得所需的各種優異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運->沉積。它的主要特點在于不管原來需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運時都要轉化成氣相形態進行遷移，終到達工件表面沉積凝聚成固相薄膜。

對于需要更高的表面形態質量的應用（對于粗糙度，晶粒尺寸，化學計量和其他要求比沉積速率更重要的應用），濺射工藝似乎是一種替代方法。由于在冷卻過程中隨著溫度或基材（聚合物）熔化溫度的降低而產生的應力，沉積過程對某些應用提出了溫度限制。這導致濺射工藝在PVD沉積技術中變得更加重要，同時又不會忘記基于濺射工藝的新技術的出現，以滿足不斷增長的市場需求。