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DLC真空鍍膜設(shè)備的分類(lèi)與應(yīng)用

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備是專(zhuān)業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專(zhuān)用設(shè)備，DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細(xì)密環(huán)保，我們?nèi)粘Ｉ钪卸茧x不開(kāi)DLC真空鍍膜設(shè)備。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術(shù)融合一體，結(jié)合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細(xì)化膜層各項(xiàng)性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復(fù)合膜等。

經(jīng)至成真空科技技術(shù)人員多年專(zhuān)注研發(fā)，通過(guò)特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開(kāi)發(fā)出整套PROPOWER系列計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制系統(tǒng)，使鍍膜層附著有力致密、從復(fù)度一致性好等特點(diǎn)；

解決了人工手動(dòng)操作復(fù)雜性、膜層顏色不一致等問(wèn)題。廣泛適用于手表、手機(jī)殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。

DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)作為一種產(chǎn)生特定膜層的技術(shù)，在現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)生活中有著廣泛的應(yīng)用。DLC鍍膜設(shè)備技術(shù)有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

DLC鍍膜設(shè)備是在中間設(shè)置真空室，在真空室的左右兩側(cè)設(shè)置左右大門(mén)，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，蒸發(fā)DLC鍍膜設(shè)備可在該雙門(mén)上預(yù)留該兩裝置的接口，以備需要時(shí)換裝。

金剛石膜(DLC)真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等，如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。

中頻磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)介紹

很多人不知道，磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)也分類(lèi)型的，鍍的產(chǎn)品不一樣，使用的磁控濺射技術(shù)也是有差別，今天至成真空小編為大將講解一下中頻磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)，希望能幫到大家。

中頻磁控濺射真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)分靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強(qiáng)。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。不管平衡非平衡，若磁鐵靜止，其磁場(chǎng)特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率，可采用旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)。但旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對(duì)于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備，多用磁場(chǎng)靜止靶源。

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點(diǎn)火和濺射很方便。這是因?yàn)榘校帢O），等離子體，和被濺零件真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻電源，回路中加入很強(qiáng)的電容。這樣在絕緣回路中靶材成了一個(gè)電容。但高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問(wèn)題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入Ar氣和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕狻．?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)相關(guān)知識(shí)

跟鍍膜行業(yè)有接觸的工作人員，幾乎人人都知道磁控濺射技術(shù)，它在現(xiàn)今市場(chǎng)應(yīng)用非常廣泛，各行各業(yè)鍍膜層都大量投入使用，獲得眾多商家和客戶(hù)的認(rèn)可。今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)方面的相關(guān)知識(shí)。專(zhuān)業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)生產(chǎn)實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、測(cè)試等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。

控制系統(tǒng)特點(diǎn)：

1）采用具有超溫偏差保護(hù)、專(zhuān)業(yè)磁控濺射生產(chǎn)數(shù)字顯示的微電腦P.I.D溫度控制器，帶有定時(shí)功能，控溫精準(zhǔn)可靠。

2）超溫保護(hù)、定時(shí)停機(jī)、來(lái)電恢復(fù)、溫度修正等功能。

3）具有斷電恢復(fù)功能，在外電源突然失電又重新來(lái)電后，專(zhuān)業(yè)磁控濺射真空鍍膜機(jī)可自動(dòng)按原設(shè)定程序恢復(fù)運(yùn)行。安全裝置：A）慮周全的安全保護(hù)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)人員、樣品和設(shè)備的三重安全保護(hù)。B）全功能：傳感器故障報(bào)警、超溫報(bào)警、獨(dú)立式過(guò)升防止器、獨(dú)立式超溫保護(hù)器、過(guò)電流跳閘保護(hù)等。