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              真空鍍膜反光杯廠家加工服務放心可靠「在線咨詢」

              發布時間:2021-10-17 05:24  

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              物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法 :

              從膜層特點看,真空蒸鍍低溫時密度小但表面光滑、氣孔低溫時多、附著性不太好、內應力為拉應力繞射性差;濺射密度大、氣孔少但混入濺射氣體較多、附著性較好、內應力為壓應力、繞射性差;離子鍍密度大 ,無氣孔但膜層缺陷較多,附著性很好,內應力視工藝 條件而定,繞射性較好。鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:本底真空度:本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。

              鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響:

              本底真空度: 本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。一般本底真空應該進入5-7*10-3。

              常見的濺射有兩種:不反應濺射和反應濺射。不反應濺射指濺射氣體和鍍膜材料之間不發生化學反應。因此不反應濺射所使用的氣體為惰性氣體,一般使用y氣(Ar),稱為工作氣體。不反應濺射一般都用在鍍金屬膜層上,導電性能越好的材料,濺射速率越高。



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