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發布時間:2021-09-05 21:02  
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線列式磁控生產線
沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品,我們為您分析該產品的以下信息。
采用先進的in-line產線結構,Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術,并配以全自動控制系統、先進的真空系統,可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質薄膜、金屬或合金薄膜,并可連續濺鍍多種不同材質的薄膜構成復合多膜層結構,適合大規模光學、電學薄膜的生產,做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優勢。靶材和輝光之間為電壓降區域,給正離子提供足夠能量的電場,正離子加速轟擊到靶材上,使靶材的物質濺射出來,沉積到基體上(兩側的長線)。
本產品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產業領域。
磁控濺射“磁控反應”介紹
磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發生在零件表面,也發生在陽極,真空腔體表面以及靶源表面,從而引起滅火,靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發明的孿生靶源技術,很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極,從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源(磁控,多弧,離子)所必需,因為能量很大一部分轉為熱量,若無冷卻或冷卻不足,這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。線列式磁控生產線沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品,我們為您分析該產品的以下信息。
沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產、銷售磁控濺射產品,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!
直流磁控濺射技術的原理
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——專業生產、銷售磁控濺射產品,我們公司堅持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠為本,講求信譽,以產品求發展,以質量求生存,我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創輝煌。
直流磁控濺射技術其原理是:在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;所不同的是電場方向,電壓電流大小而已沈陽鵬程真空技術有限責任公司本著多年磁控濺射產品行業經驗,專注磁控濺射產品研發定制與生產,先進的磁控濺射產品生產設備和技術,建立了嚴格的產品生產體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話。另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質量。同時,經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優點。
自動磁控濺射系統概述
帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,大到6'旋轉平臺,可支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內可以達到10-6 Torr的真空。通過調整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。電離出的離子轟擊靶表面,使得靶原子濺出并沉積在基片上,形成薄膜。
帶有14”立方形不銹鋼腔體,4個2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,350 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
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