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真空鍍膜加工技術的一般術語及工藝

2.1.8激光束蒸發：通過激光束加熱蒸發材料的蒸發。

   2.1.9間接加熱的蒸發：在加熱裝置(例如小舟形蒸發器,坩堝,燈絲,加熱板,加熱棒,螺旋線圈等)中使蒸發材料獲得蒸發所須的熱量并通過熱傳導或熱輻射方式傳遞給蒸發材料的蒸發。

   2.1.10閃蒸：將很少量的蒸發材料間斷地做瞬時的蒸發。

   2.2真空濺射：在真空中，惰性氣體離子從靶表面上轟擊出原子（分子）或原子團的過程。

   2.2.1反應性真空濺射：通過與氣體的反應獲得理想化學成分的膜層材料的真空濺射。

  2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電，氣體放電產生的離子，在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經受氣體放電轟擊的清洗過程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態下，鍍膜材料經蒸發或濺射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術先用于生產光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。

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真空鍍膜表面處理工藝后鋁型材的特征

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環境、條件下會形成光的干擾的缺點，它的表面如錦緞一樣細膩柔和，很受市場的青睞，但現有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

PVD鍍膜技術的原理?

?PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。