河北火花光譜儀廠家在線咨詢「多圖」

由中國(guó)72家鑄造協(xié)會(huì)/學(xué)會(huì)聯(lián)手打造的第十六屆中國(guó)國(guó)際鑄造博覽會(huì)The

16th China International Foundry Expo (metal China)于2018年5月16-19日在北京順義新國(guó)展博覽中心成功舉辦。展商和觀眾來(lái)自中國(guó)、德國(guó)、美國(guó)、巴西、俄羅斯、日本、印度、西班牙等80多個(gè)國(guó)際和地區(qū)，展商數(shù)量超過(guò)1300家，觀眾超10萬(wàn)人次。本次展會(huì)得到同行業(yè)、學(xué)者及技術(shù)人員的高度評(píng)價(jià)。

鋼研納克在本博覽會(huì)上集中展示了SparkCCD

6000型全譜火花直讀光譜儀、CSONH氣體分析儀、Plasma 3000型雙向觀測(cè)全譜電感耦合等離子體光譜儀、力學(xué)試驗(yàn)機(jī)等分析儀器，吸引了國(guó)內(nèi)外眾多參展人員，受到、學(xué)者的一致好評(píng)。

操作火花直讀光譜儀時(shí)應(yīng)注意要點(diǎn)

工作曲線的標(biāo)準(zhǔn)化操作和描跡操作

①標(biāo)準(zhǔn)化操作每班進(jìn)行一次。如果操作人員認(rèn)為激發(fā)標(biāo)鋼分析結(jié)果穩(wěn)定，可以用上個(gè)班的標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)。

在分析過(guò)程中個(gè)別元素偏離太大時(shí)，可以再實(shí)行標(biāo)準(zhǔn)化，保證分析結(jié)果的準(zhǔn)確。

②標(biāo)準(zhǔn)化操作時(shí)，研磨標(biāo)準(zhǔn)化樣品較好用新的砂輪片面。

③、標(biāo)準(zhǔn)化過(guò)程中，要檢查標(biāo)準(zhǔn)化樣品的號(hào)碼，按需要輸入。不可粗心大意的輸入。

④、標(biāo)準(zhǔn)化操作完成以后，要檢查一下系數(shù)和補(bǔ)償值，與上一次做對(duì)比，不要變動(dòng)太大。

直讀光譜儀其它因素影響    

光電光譜檢測(cè)分析存在的誤差在所難免，要正確的認(rèn)識(shí)誤差，查找誤差存在的原因，采取有效的措施消除誤差。光譜檢測(cè)分析誤差除受上面幾種因素的影響外，還有以下幾種因素的影響：

1.人的因素：    操作者的質(zhì)量意識(shí)、責(zé)任意識(shí)、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會(huì)影響檢測(cè)的效果；

2.設(shè)備因素：    比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測(cè)和維護(hù)，光源性能穩(wěn)定性如何，氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定，試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對(duì)加工設(shè)備進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)等，都會(huì)一定程度上影響檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。

3.樣品試樣因素：比如待測(cè)試樣成分是否均勻，是否具有試樣的代表性，熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常，標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻，成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠，組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等，都是影響其檢測(cè)效果的關(guān)鍵因素。

4.分析方法因素：在分析方法上，分析曲線制作及擬合程度是否達(dá)標(biāo)，標(biāo)準(zhǔn)化過(guò)程及效果是否，控樣選擇是否規(guī)范，定值是否嚴(yán)格等等，都一定程度上影響著檢測(cè)效果。

5.環(huán)境因素：比如檢測(cè)所在分析室的溫度、濕度是否正常，受否受電磁干擾的影響，所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生，是否具備檢測(cè)要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境，只有有了良好的檢測(cè)環(huán)境，才能為檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。

如R表示強(qiáng)度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。

在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。

光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。

現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。