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Parylene涂層是在室溫下在元件上自發形成的

Parylene涂層是在室溫下在元件上自發形成的，不需要經升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時間來讓膜生長。由于這種聚合物是自發的不需要催化劑。 促進聚合的催化劑通常是離子或離子化合物，固化后它們會多少殘留一些在涂層里。這些殘留的物質能參與電荷的遷移，在一定程度上影響涂層的電性能。又由于Parylene涂層是在室溫下形成的，因此可以防止主要因室溫和固化溫度變化不同由熱膨脹引起的應力問題。

       隨著信息產業的不斷發展，磁性元件越來越趨向于小型化，3-5㎜的軟磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，甚至尺寸更小的磁材都不斷被應用，對磁材的防護提出了新的要求。小型軟磁芯作饒線器件時，經聚對二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的電壓，由于聚對二摩擦系數低，饒成操會更滑溜，不傷線，更便于操作，稀土釹鐵硼永磁材料是一種強磁材料。

        Parylene用du特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優勢。它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，裂縫里和內表面。

涂層厚度可控制：

1.涂層厚度取決于原料消耗量及氣體單體在沉積腔內的駐留時間;

2.通常的沉積速率為0.5-5um/hour,與沉積溫度,自由基濃度有關。