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由水平調整的自準直儀發(fā)出一束激光穿過真空室的玻璃窗照射固定于工作臺上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調變補償調節(jié)機構，

使反射光束進入自準直儀接收視場，記錄兩維角度偏差。真空鍍膜加工

按有限元計算的真空狀態(tài)下的補償量再次調整，顯然，此時的反射光束已遠離自準直儀接收視場，但一旦真空室進入真空狀態(tài)，

反射光束又重新進入自準直儀的接收視場，記錄此時的兩維角度偏差。前后兩次顯示的兩維角度偏差基本吻合。

真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒有量綱單位，是一個對數(shù)值，通常僅對鍍鋁薄膜和珠光膜進行光密度測量。 光密度是入射光與透射光比值的對數(shù)或者說是光線透過率倒數(shù)的對數(shù)。

計算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線透過率為0.10/0~10%)，數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對應的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜中用到的離子源種類較多。主要有:高頻離子源，弧放電離子源，kaufman離子源，射頻離子源，霍爾離子源，冷陰極離子源，電子回旋離子源，陽極層離子源，感應耦合離子源可能還有很多其它類型離子源未被提到。