微弧氧化處理規格尺寸

微弧氧化技術

       采用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產，適用于大工業生產等優點。微弧氧化電解液不含有毒物質和zhong金屬元素，電解液抗污染能力強和再生重復使用率高，因而對環境污染小，滿足清潔生產的需要，也符合我國可持續發展戰略的需要。電源要設置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化生產線

微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉第區域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術的基本原理及特點是：在普通陽極氧化的基礎上，利用弧光放電增強并ji活在陽極上發生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優質的強化陶瓷膜的方法。

微弧氧化的優勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術，微弧氧化技術是近十幾年在陽極氧化基礎上發展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現為電中性的物質，它被稱為固態、氣態和液態以外的第四態。處于熱等離子態的物質具有強的導電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結合牢固，結構致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應用前景。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線。