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發布時間:2020-07-23 16:10  
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多源有機無機蒸發?系統鈣鈦礦蒸發鍍膜機供應
多源有機無機蒸發系統
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主要用途:
用于納米級單層及多層金屬膜、 半導體膜等新材料的制備。廣泛應用 于大專院校的薄膜材料科研。
系統組成:
由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空測量、膜厚測試、電控系統組成。
技術指標:
極限真空度5.0×10-5Pa,系統漏率:1×10-7PaL/S; 恢復真空時間:40分鐘可達6.6×10 Pa
真空室:D形真空室,尺寸350× 380mm
樣品臺:尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品;
電極:數量:4支水冷結構;直徑Φ20㎜
樣品基片:,基片在鍍膜位置實現自轉。基片的溫度從室溫至600℃
4套擋板系統:基片擋板與源擋板;靶擋板共有3套, 樣品擋板(1套)
石英晶振膜厚控制儀:膜厚測量范圍0-999999?
可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統。
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