舟山AF鍍膜設備多重優惠,至成鍍膜設備

鍍膜機能鍍出不同顏色的不銹鋼產品嗎

不同的顏色，用不同的工藝和不同的耙材，比如常見的槍色，我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙，鈦耙做出來的顏色老，鉻耙做出來的顏色嫩，黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來掉色的現象，個分析工藝是否正確，第二個分析前處理清洗是否徹底，純水值是否達到標準要求，第三個分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個。如果顏色出現變色，分析掛具的產品是否在有效的濺射范圍內，第二分析工藝是否應該調整。

退鍍這一塊也是根據不同的工藝，偏壓的大小，不同的耙材所鍍的顏色來分析應該如何來正確的退鍍，用鈦耙鍍出來的顏色。

鍍膜理論

鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結合創建較大的總振幅。當光束為反相位（180°位移）時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應，導致結合的振幅降低。這些效應被分別稱為建設性和破壞性的干涉。

光的波長和入射角通常是的，折射率和層厚度則可以有所不同以優化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應可簡單地通過單層增透膜例子說明。當光傳輸穿過系統時，在鍍膜任一側的兩個接口指數更改處將出現反射。為了盡量減少反射，我們希望它們在個接口重組時，這兩個反射部分具有180°的相位移。這個相位差異直接對應于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設置為λ/4獲得良好實現。

磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高?

磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高？ 這就需要增加氣體的理化效率。增加氣體的離化效率能夠有效的提高濺射的效率。 通常在健身過程中，經過加速的入射離子轟擊靶材陰極表面的時候，會產生電子發射，而這些在陰極表面產生的電子開始向陽極加速進入負輝光區，和中性氣體原子進行碰撞，產生的自持的輝光放電所需離子。電子在平均只有程隨著電子能量的增大而增大，隨著氣壓的增大而減小，特別是在遠離陰極的地方產生，它們的熱壁損失也是非常大的，這主要是因為其離化效率低。 因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠將初始電子限制在陰極范圍內，能夠有效的增加氣體原子的梨花效率，從而提高磁控濺射鍍膜設備的濺射效率。