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化學氣相沉積法簡介

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化學氣相堆積(簡稱CVD)是反響物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生化學反響，生成固態(tài)物質(zhì)堆積在加熱的固態(tài)基體外表，進而制得固體資料的工藝技術(shù)。它本質(zhì)上歸于原子領(lǐng)域的氣態(tài)傳質(zhì)進程。

化學氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來的制備無機資料的新技術(shù)。化學氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研發(fā)新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無機薄膜資料。這些資料可所以氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可所以III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，并且它們的物理功用能夠通過氣相摻雜的淀積進程準確操控。如果您對化學氣相沉積感興趣，歡迎點擊左右兩側(cè)的在線客服，或撥打咨詢電話。現(xiàn)在，化學氣相淀積已成為無機合成化學的一個新領(lǐng)域。