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發布時間:2020-08-21 12:50  
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)雜質的種類和混入途徑
污染鍍鎳溶液的雜質大致可以分成,銅,鋅,鐵等金屬雜質;根,磷酸根等陰離子雜質;油脂類,光亮劑分解產物等有機雜質;以及活性炭粒等固體型雜質。一般雜質的混入主要途徑有電鍍原材料的帶入,工件在鍍槽中的溶解,其他工序溶液 殘余帶入,新設備附帶雜質帶入等[1]。此外,采用閉路循環系統雖有利于電鍍藥品的回收和減少排水處理費用,但卻造成雜質的濃縮,積蓄的問題。因此,電鍍用水也以使用雜質少的去離子水為宜。
鍍液凈化方法:
1,電解法
電解處理亦是電鍍過程,所不同的只是在陰極上不吊掛零件,而是改為吊掛以去除雜質而制作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情況下,使雜質在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對無害的物質。在少數情況下,電解去除雜質也有在陽極上進行的,使某些能被氧化的雜質,在通電的情況下,到達陽極上氧化為氣體逸出或變為相對無害的物質[3]。
電解法適用于去除容易在電極上除去或降低其含量的雜質。
(1)電解條件的選擇。這里所指的電解,目的是要去除鍍液中的雜質,但是在電解去除雜質的同時,往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質的速率,減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率,就要注意電解處理的操作條件。
①電流密度:電解處理時,以控制多大的電流密度為好,原則上要按照電鍍時雜質起不良影響的電流密度范圍。也就是說,在電鍍過程中,若雜質的影響反映在低電流密度區,那么電解處理時應控制在低電流密度下進行,假使雜質的影響反映在高電流密度區,則應選用高電流密度進行電解;如果雜質在高電流密度區和低電流密度區都有影響,那么可先用高電流密度電解處理一段時間,然后再改用低電流密度電解處理,直至鍍液恢復正常。在一般情況下,凡是用低電流密度電解可以去除的雜質,為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低電流密度電解。事實上,電鍍生產中,多數雜質的影響反映在低電流密度區,所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A/dm2-0.5A/dm2之間.[4]
2、合理安排下料順序。在級進模中,下料順序的安排有可能影響到沖壓件成形的精度。針對沖壓件細小部位的下料,一般先安排較大面積之沖切下料,再安排較小面積的沖切下料,以減輕沖裁力對沖壓件成形的影響。
3、在凸模刃口端部修出斜面或弧形。這種方法可以有效減緩沖裁力。沖裁力降低后,即可減輕對凹模側材料的拉伸力,避免沖壓件產生翻料、扭曲現象。
4、注意維護沖切凸、凹模刃口的鋒利度。如果沖切刃口有磨損,就會使材料所受拉應力增大,從而沖壓件產生翻料、扭曲的趨向加大,所以應做好維護工作,避免沖切刃口磨損。