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發布時間：2020-11-03 09:34
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鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統
儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。
優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。
光源
固態射頻發生器，穩定，體積小巧，，匹配速度快
冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。 實時監控儀器運行參數，CAN工業現場總線，保障通訊可靠。
進樣系統
簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現。
ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。
檢測器
大面積背照式CCD檢測器,全譜段響應，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范
圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。
ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，像素，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。
軟件系統
人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。
安全防護
電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗
鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數
1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）
3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態射頻發生器，小巧有效
5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動匹配調節
7. 全組裝式炬管，降低了維護成本
8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能
9. 實驗數據穩定性良好：重復性
RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD
≤2.0%（大于3小時）
鋼研納克：固態光源ICP，國產單道掃描ICP進入固態光源時代
穩健的全固態光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500
全固態射頻發生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態光源ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發性的測試，具有優異的長期穩定性。
垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。
簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。
具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。
實時監控儀器運行參數，以太網及CAN工業現場總線，保障通訊可靠。
