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              微弧氧化生產(chǎn)線方案信賴推薦 日照微弧氧化電源

              發(fā)布時(shí)間:2021-10-04 21:02  

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              微弧氧化膜的優(yōu)勢

              微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比, 這種膜的空隙率大大降低,從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。一平方厘米電弧可以分解出來10億個(gè)以上的小弧斑,再把弧的開斷時(shí)間控制在百萬分之一秒內(nèi),這個(gè)小弧斑可以在物質(zhì)表面形成融溶噴射現(xiàn)象。目前,微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成,總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。

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              微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)

              1、大幅度地提高了材料的表面硬度,顯微硬度在 1000 至 2000hv ,高可達(dá) 3000hv ,可與硬質(zhì)合金相媲美,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;

              2、有良好的絕緣性能,絕緣電阻可達(dá) 100m ω。

              3、溶液為環(huán)保型,符合環(huán)保排放要求。

              4、工藝穩(wěn)定且可靠 , 設(shè)備工藝簡單, 。

              5、 反應(yīng)在常溫下進(jìn)行,操作方便,易于掌握。



              微弧氧化

              采用微弧氧化技術(shù)對鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理,具有工藝過程簡單,占地面積小,處理能力強(qiáng),生產(chǎn),適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素,電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對環(huán)境污染小,滿足清潔生產(chǎn)的需要,也符合我國可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。陽極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng),而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外,還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng)(CASS鹽霧試驗(yàn)>480h),絕緣性好(膜阻>100MΩ),膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術(shù)工藝處理能力強(qiáng),可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要;也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色;還可采用不同的電解液對同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。



              微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

              (1)氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

              (2)原位生長。

              (3)氧化膜均勻增厚。

              (4)無污染:無環(huán)保限制元素加入,基本無廢水排放。

              制備工藝簡單。

              (5)表面硬度高,顯微硬度在400至1500HV;

              (6)耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng);

              (7)耐腐蝕性能:鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000-2000小時(shí) ;鎂

              合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

              (8)耐熱性能:300℃水中淬火35次未見變化,1300℃

              沖擊5次不脫落、不龜裂。

              (9)絕緣性能:膜厚不同,表面電阻達(dá)  109-12Ω