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真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。

真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

多功能鍍膜設備及鍍膜方法與流程

現在，真空鍍膜機是用于外表處理PVD膜層的專用設備，包含真空磁控濺射鍍膜機、真空蒸騰鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機等，真空磁控濺射鍍膜機可在低溫狀態下進行非金屬資料進行鍍膜，真空蒸騰鍍膜機和真空多弧離子鍍膜機歸于高溫鍍膜，適用于金屬資料鍍膜。

每種鍍膜機都有各自特色和使用范圍約束，如需鍍制多種不同膜層以及進行金屬和非金屬資料的鍍膜，需求置辦上述多種真空鍍膜機，存在設備出資大的缺陷。

為了處理上述問題，供給一種多功能鍍膜設備及鍍膜辦法。手套箱蒸鍍一體機，本體系由真空鍍膜體系和手套箱體系集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完結薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體空氣下進行樣品的寄存、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。首要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導體制備等試驗研討與使用。

蒸騰鍍膜與手套箱組合，完成蒸鍍、封裝、測驗等工藝全封閉制造，使整個薄膜成長和器材制備進程高度集成在一個完好的可控環境空氣的體系中，消除有機大面積電路制備進程中大氣環境中不穩定要素影響，保證了、大面積有機光電器材和電路的制備。

沖壓件真空鍍膜設備

工具經沖壓件真空鍍膜設備硬質涂層處理后，其性能更穩定，可出穩定、高質量的工件，可防止功能性表面、刀刃和拉伸半徑受到磨損，顯著延長工具的使用壽命；使用壽命的延長和行程率的提高在提高生產率的同時降低了單位成本；底層堅硬而頂層摩擦低的涂層系統，降低了粘附磨損，從而可能減少對環境產生不良影響的潤滑劑的用量，甚至完全不使用潤滑劑；因為涂層減少了工具負荷并因而降低了破損風險，生產可靠性得以提高，對于金屬薄板成型工具，涂層可用作磨損指示器，磨損和冷焊的減少改進了工件的表面質量，也使工件能夠滿足對其外觀的更高要求，光潔度也與隨后的電鍍工藝更加相匹配。

真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發源，或配多個矩形平面電弧蒸發源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩定性。

真空鍍膜機光學厚度的監測

真空鍍膜機光學厚度的監測 精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學厚度的監測。optimalswa-i-05單一波長的光學監測系統，是間接控制，鍍膜機先進的光學監測軟件結合王博士的發展，有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少的誤差的理論方法，提供監測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監控包括不規則的膜。