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              發(fā)布時間:2020-12-31 07:38  

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              金屬蝕刻工藝流程

              1、金屬的種類不同,其蝕刻工藝的流程也不同,但大致的工序如下:焊邊:需要電烙鐵、焊劑、焊料等。立體標(biāo)牌需要剪板、折邊、焊邊,尤其表面弧形的標(biāo)牌。本項目單片的標(biāo)牌不需要折邊、焊邊。

              2、剝皮:剝?nèi)ゲ讳P鋼、鈦金表面起保護(hù)作用的塑料薄膜。

              3、圖文設(shè)計:需要電腦和相應(yīng)的設(shè)計程序。

              4、圖文輸出:需要刻字機(jī),把設(shè)計好的圖文內(nèi)容刻在不干膠紙上。

              5、貼字:把刻好的不干膠片平整地貼到金屬板上。

              6、剔字:把需要蝕刻處不干膠紙?zhí)蕹?

              7、壓實:把字的邊緣處壓緊壓實,防止?jié)B水。

              8、蝕刻:①電蝕刻:可用標(biāo)牌蝕刻機(jī)填漆機(jī),速度快;②化學(xué)蝕刻。

              9、水洗:蝕刻到需要的深度停止蝕刻,用清水沖洗干凈。

              10、晾干:自然晾干或烤干。

              11、填漆:金屬蝕刻標(biāo)牌的填漆有好幾種,對于此類標(biāo)牌推薦一下兩種:

              ①噴漆:需要空壓機(jī)和噴槍——適用于標(biāo)牌尺寸較大、字體較大的標(biāo)牌。

              ②電泳填漆:即用本公司的標(biāo)牌蝕刻填漆機(jī)進(jìn)行填漆——適用于標(biāo)牌尺寸不大的標(biāo)牌。

              12、油漆干燥:自然干燥或烤漆。

              13、剝皮:剝掉圖文以外起保護(hù)作用的不干膠。

              14、檢查、修整、清潔——成品。



              產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于: 電子、 精密五金、 通訊、汽車工程、航空航天、石油化工、軍事、科研、精密工程應(yīng)用元件 等行業(yè)。而機(jī)械沖制方法必須具備高精度的沖制設(shè)備和模具加工設(shè)備,開發(fā)周期要2至3個月。 公司所使用的材料以進(jìn)口為主,能夠?qū)Ω鞣N不同的金屬材質(zhì)進(jìn)行蝕刻加 工,主要有 SUS304、SUS301奧氏體鋼不銹鋼系列、鐵素體鋼材、馬氏體鋼、非 鐵金屬、合金材料、復(fù)合材料等各種特殊材料。厚度從0.01mm—2.0mm,公差可控制在±0.005mm。 本公司自成立以來,勵精圖治,精益求精,憑借全體員工的誠信、務(wù)實、 創(chuàng)新的企業(yè)精神, 在技術(shù)開拓創(chuàng)新方面躋身蝕刻行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位。


              鏤空產(chǎn)品的細(xì)線條應(yīng)在基材厚度的 1.2 倍以上; 表面蝕刻產(chǎn)品的細(xì)線條間隔應(yīng)在 0.16mm 左右, 這在 0.16mm 當(dāng)中黑線與白地的比例視反光度不同可作成 1∶3、2∶2、2∶1。雙面蝕刻產(chǎn)品的正反菲林片四周應(yīng)有清晰準(zhǔn)確的對準(zhǔn)十字線, 且正反兩張片都要藥膜帖近基材。 (以銅板為例) 板材正面用 2400 轉(zhuǎn)/分布輪拋光, 1.2 板材處理 達(dá)到鏡面效果,然后去臘、除油、清洗、干燥待用。三氯化鐵溶液不斷地沖刷不銹鋼板的外表,溶液中的三價鐵離子疾速氧化不銹鋼板,不銹鋼板就被蝕刻下去了。 1.3 網(wǎng)印光致成像感光膠 因為制作圖案極細(xì)。顯影后無法修補(bǔ),因此選擇好的感光膠尤 為重要。我公司選用高氏(coates)光致成像耐蝕油墨,在黃光或 紅光下用 200 目絲網(wǎng)滿版印刷, 頭次印拋光面, 100℃烘 15 分鐘, 第二次印反面,再用 100℃烘 30 分鐘,待冷卻,表面不粘手,方可 進(jìn)行曝光。 1.4 曝光 吸氣哂版機(jī)曝光。曝光時間 20-100 秒不等,線條越細(xì),曝光 時間越長,反之則短。 1.5 顯影 用 3-5%碳酸鈉水溶液顯影, 水溫在 50℃左右, 水泡數(shù)秒鐘后, 用軟羊毛刷輕輕將水溶液刷除,然后清水漂洗二次,達(dá)到完全沒有殘 留膠為止。將濕銅板直接進(jìn)行蝕刻,也可晾干后再行蝕刻。



              蝕刻過程中常見的問題

              蝕刻速率降低 蝕刻速率降低與許多因素有關(guān), 故需要檢查蝕刻條件 (例如﹕溫度、 噴淋壓力、 溶 液比重、 PH 值和氯化銨的含量等)﹐使其達(dá)到適宜的范圍。 蝕刻溶液中出現(xiàn)沈淀 是由于氨的含量過低(PH 值降低)﹐或水稀釋溶液等原因造成的 (例如:冷卻系統(tǒng)漏 水等)。而采用噴淋的方式卻可以達(dá)到通過大氣中氧的作用將一價銅轉(zhuǎn)換成二價銅,并去除一價銅,這就是需要將空氣通入蝕刻箱的一個功能性的原因。 溶液比重過高也會造成沈淀。 抗蝕鍍層被浸蝕 是由于蝕刻液 PH 值過低或 CL 含量過高所造成的。 銅的表面發(fā)黑, 蝕刻不動 蝕刻液中 NH4CL 的含量過低所造成的。



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