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發(fā)布時(shí)間:2020-12-11 10:46  
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為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱(chēng)為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中,從膜材表面蒸發(fā)的粒子以一定的速度在空間沿直線(xiàn)運(yùn)動(dòng),直到與其他粒子碰撞為止。在真空室內(nèi),當(dāng)氣相中的粒子濃度和殘余氣體的壓力足夠低時(shí),這些粒子從蒸發(fā)源到基片之間可以保持直線(xiàn)飛行,否則,就會(huì)產(chǎn)生碰撞而改變運(yùn)動(dòng)方向。為此,增加殘余氣體的平均自由程,以減少其與蒸發(fā)粒子的碰撞幾率,把真空室內(nèi)抽成高真空是必要的。當(dāng)真空容器內(nèi)蒸發(fā)粒子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片的距離(以下稱(chēng)蒸距)時(shí),就會(huì)獲得充分的真空條件。設(shè)蒸距(蒸發(fā)源與基片的距離)為L(zhǎng),并把L看成是蒸發(fā)粒子已知的實(shí)際行程,λ為氣體分子的平均自由程,設(shè)從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子數(shù)為N0,在相距為L(zhǎng)的蒸發(fā)源與基片之間發(fā)生碰撞而散射的蒸汽分子數(shù)為N1,而且假設(shè)蒸發(fā)粒子主要與殘余氣體的原子或分子碰撞而散射,則有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

在飛機(jī)防護(hù)涂層方面飛機(jī)的鈦合金緊固件,原來(lái)采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過(guò)程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問(wèn)題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負(fù)偏壓,可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。在光學(xué)儀器中人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開(kāi)鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制
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