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              石碣真空鍍膜技術推薦 東莞拉奇納米

              發布時間:2021-10-19 04:29  

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              物理氣相沉積技術表示在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)過程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。 物理氣相沉積的主要方法有,真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜,及分子束外延等。發展到目前,物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。


              相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調控、加 方便等優勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料,大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、 磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。







              真空鍍膜加工設備完成真空鍍膜過程其工藝之多非常復雜,真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類,因為真空鍍膜加工工作環境要要求高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工,影響均勻性的因素也不盡相同。 并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度。真空鍍膜技術