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發布時間:2021-10-10 10:07  
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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點
1. 分析流程全自動化控制,實現軟件點火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動匹配調諧,功率參數程序設定;
3. 優良的光學系統,先進的控制系統,保證峰位定位準確,信背比優良;
4. 較小的基體效應;
5. 測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態線性范圍5—6個數量級;
6. 檢出限低,大多數元素的檢出限可達ppb級;
7. 良好的測量精度,穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優于國家A等級標準(JJG768-2005);
8.
Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 精度較高的光室恒溫系統,保證儀器優良的長短期精度;
12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數據處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數據處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。
Plasma 3000 ICP光譜儀具有垂直火炬,雙向觀測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動態線性范圍和更低的背景。
自激式固態射頻發生器,有效穩定,體積小巧,匹配速度快,確保Plasma 3000
ICP光譜儀精度較高運行及優異的長期穩定性。
高速面陣 CCD 采集技術,單次曝光獲取全部譜線信息,Plasma 3000 ICP光譜儀真正實現“全譜直讀”。
功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發過程。應用工程師為ICP光譜儀用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

由鋼研納克承擔的國家重大科學儀器設備開發專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,接近于商品水平的產品樣機將于年內完成;ICP質譜儀第二代研發樣機已成功組裝和調試,采集到正確的譜圖,這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統、接口及離子傳輸系統以及射頻發生器系統3個關鍵、難點技術已經實現原理攻克。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發任務奠定了堅實的基礎。