不銹鋼深孔拋光價格詢問報價「在線咨詢」

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。4、漆面拋光前建議先用洗車泥擦拭，去除油漆表面附著的表層顆粒和污染物。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

拋光時，高速旋轉的拋光輪（圓周速度在20米/秒以上）壓向工件，使磨料對工件表面產生滾壓和微量切削，從而獲得光亮的加工表面，表面粗糙度一般可達Ra0.63～0.01微米;當采用非油脂性的消光拋光劑時，可對光亮表面消光以改善外觀。 大批量生產軸承鋼球時，常采用滾筒拋光的方法。063μm，由于電解拋光、流體拋光等方法很難精l確控制零件的幾何精l確度，而化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質量又達不到要求，所以精密不銹鋼的鏡面加工還是以機械拋光為主。粗拋時將大量鋼球、石灰和磨料放在傾斜的罐狀滾筒中，滾筒轉動時，使鋼球與磨料等在筒內隨機地滾動碰撞以達到去除表面凸鋒而減小表面粗糙度的目的，可去除0.01毫米左右的余量。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。化學拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內表面和形狀復雜的工件，不需要外加電源、設備，操作簡單、成本低。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現高質量的表面拋光。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。

棫楦金屬材料有限公司成立于2010年，公司具有全自動電解出產線4條,手動電解出產線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主，很大工件電解拋光規(guī)范：2300*1100*1000，所加工產品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。電化學拋光過程分為兩步：(1)宏觀整平溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>。加工后的產品完全可以經過：ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗。

電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。夾具選用鈦做掛具，因為鈦較耐腐蝕，壽命長，鈦離子對槽液無影響。電化學拋光過程分為兩步： (1) 宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra>1μm。 (2) 微光平整 陽極極化，表面光亮度提高，Ra<1μm。

化學拋光時，溶解速度隨著拋光液溫度的提高而顯著地增加。此外，強氧化性酸在高溫時氧化作用也會顯著提高。

化學拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內表面和形狀復雜的工件，不需要外加電源、設備，操作簡單、成本低。其缺點是化學拋光效果比電解拋光效果差，拋光過程中會產生氮氧化合物等環(huán)境污染物，而且拋光液用后處理較麻煩。