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真空鍍膜機的全新發展真空泵與隔膜泵機械密封的安裝與使用

真空鍍膜機的發展相當迅速，隨著生產率的提高，生產費用大大降低，已經為真空鍍膜產品的普遍使用鋪平了道路。

以卷繞式真空鍍膜機為例，剛開發時可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達2253mm。基材卷筒的大卷徑是1000mm，大卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續卷繞式真空鍍膜機鍍膜時間占整個周期的75%，輔助操作時間只占25%。隨著計測技術、控制技術的進步和電子計算機的應用，卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高度可靠性的方向發展。

真空鍍膜機真空鍍膜機能夠沉積的鍍膜層厚度范圍為0.01-0.2，可以在這個范圍內選擇，有的還可以鍍多層膜，滿足多種需要。日本提出沉積兩種不同鍍膜材料的卷繞式蒸鍍裝置。該裝置的真空室分為上室，左下室和右下室。蒸鍍時，兩組蒸發源蒸發的鍍膜材料分別沉積在塑料薄膜上，在塑料薄膜沒有蒸鍍的一側，裝上輝光放電發生器。發生器產生的輝光放電氣體能防止塑料薄膜起皺。使用這套裝置可以在極薄的塑料薄膜上鍍上無折皺的多層膜，用于制磁帶和薄膜太陽能電池等。

真空鍍膜機是如何操作真空電阻式蒸發鍍膜機的

隨著真空鍍膜機的工藝發展不斷革新，而硬質薄膜的設計向著多元化、多層膜的方向發展。成為現代企業優選的鍍膜工藝。今天我們通過中國真空協會的剖析后，給予詳細作答。其實鍍膜機的正常操作方法應該參考操作手冊的指示操作。

不過大致的操作程序，我們簡單的說一下吧：

1、檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在;關位置。

2、打開總電源開關，真空鍍膜設備送電。

3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。

4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。

5、落下鐘罩。

6、啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。

7、開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。

8、多弧離子鍍膜機當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。

9、真空鍍膜設備開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

10、低壓閥拉出。立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕;轉至指向2區段測量位置。低真空表;內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥。

真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力

真空卷繞鍍膜機鍍層之間的結合力主要與以下因素有關：

1、真空鍍膜設備底鍍層的種類與性質。一般認為，銅層與多種金屬都具有好的結合力。含鐵量高達30％左右的高鐵鎳鐵合金，在酸銅液中也會產生置換銅層，故不能用于光亮酸銅打底。

2、真空鍍膜機底鍍層的光亮性。真空鍍膜鍍層越是光亮，與其他鍍層的附著力可能越差。

3、真空鍍膜設備底鍍層表面的清潔性。典型的是鍍硫酸鹽光亮酸銅后，往往形成有機膜鈍化層，應作脫膜處理。不要輕信聲稱鍍后無需除膜的酸銅光亮劑的宣傳，而在工藝流程設計時不考慮除膜工序。

因為即使新配液時可以不脫膜，隨著亮銅液中有機雜質的積累或加入的光亮劑比例失調時，也會產生憎水的有機膜層。眾所周知，聚乙二醇幾乎是所有酸銅光亮劑中不可缺少的組分，而鍍層中聚乙二醇的夾附量越大，越容易生成憎水膜層。

4、真空鍍膜機底鍍層的鈍化性。越易鈍化的鍍層，其上鍍層的結合力越差。鎳是易鈍化金屬，鍍鎳過程中斷電對間稍長，鎳鍍層在鍍鎳液中會發生化學鈍化；

若未能有效避免雙性電極現象(詳見第四講)；則作為陽極部分的工件局部更會發生嚴重的電化學鈍化，在鍍多縣鎳時特別應注意。鉻比鎳更易鈍化，所以鉻上鍍鉻必須有良好的活化。

鉻上鍍鉻的情況也不少，如：裝飾性套鉻一次深鍍能力差時作二次套鉻；為兼顧抗蝕性與耐磨性，在乳白鉻(基本無裂紋)上鍍硬鉻；鉬及鉬合金電鍍要求用鍍鉻打底等。