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DZS800型電子束鍍膜設備

主要用途：　　

用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，批量生產型。

系統組成:　　

系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、計算機系統及安裝機臺等部分組成。　　

技術指標：　　

極限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢復真空時間：從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系統漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱體前開門，后置抽氣系統　　

e型電子槍：陽極電壓：10kv(2套)　　坩堝：水冷式坩堝，24穴設計，每個容量11ml　　

功率：0-10KW可調　　電阻蒸發源(可選)　　

基片尺寸：可放置4″基片一次更換20個樣品　　

樣品臺：基片可連續回轉，轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離350mm加熱溫度 400°C±1°C　　

氣路系統：質量流量控制器1路　　

石英晶振膜厚控制儀：監測膜厚顯示范圍：0-99μ9999?

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電子束蒸發鍍膜機是由哪些部分組成的？

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設備組成：

設備由薄膜沉積室、真空獲得系統、真空測量系統、電子束蒸發系統、水冷卻循環系統、膜厚監測及控制系統、安全保護系統組成。

作用：電子束蒸鍍常用來制備Al、CO、Ni、Fe的合金或氧化物膜，SiO2、ZrO2膜，抗腐蝕和耐高溫氧化膜。

電子束鍍膜機電源柜的操作

1. 總電源

2. 同時開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延遲開關、電源及保護燈亮，三分鐘后延遲 及保護燈滅，若后門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮。

3. 開高壓，高壓會達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動。

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